圖2為本申請實施例提供的剝離液機(jī)臺的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本申請實施例提供的剝離液機(jī)臺的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本申請實施例提供的剝離液機(jī)臺的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本申請實施例提供的剝離液機(jī)臺的工作方法的流程示意圖。具體實施方式目前剝離液機(jī)臺在工作時,如果過濾剝離光阻時產(chǎn)生的薄膜碎屑的過濾器被阻塞,則需要剝離液機(jī)臺內(nèi)的所有工作單元,待被阻塞的過濾器被清理后,才能重新進(jìn)行剝離制程,使得機(jī)臺需頻繁停線以更換過濾器,極大的降低了生產(chǎn)效率。請參閱圖1,圖1為本申請實施例提供的過濾液機(jī)臺100的種結(jié)構(gòu)示意圖。本申請實施例提供一種剝離液機(jī)臺100,包括:依次順序排列的多級腔室10、每一級所述腔室10對應(yīng)連接一存儲箱20;過濾器30,所述過濾器30的一端設(shè)置通過管道40與當(dāng)前級腔室101對應(yīng)的存儲箱20連接,所述過濾器30的另一端通過第二管道50與下一級腔室102連接;其中,至少在管道40或所述第二管道50上設(shè)置有閥門開關(guān)60。具體的,圖1所示出的是閥門開關(guān)60設(shè)置在管道40上的示例圖。當(dāng)當(dāng)前級別腔室101對應(yīng)的過濾器30被薄膜碎屑阻塞后,通過閥門開關(guān)60關(guān)閉當(dāng)前級別腔室101對應(yīng)的存儲箱20與過濾器30之間的液體流通。剝離液的主要成分是什么?南通顯示面板用剝離液供應(yīng)商
當(dāng)前級別腔室101對應(yīng)的過濾器30被薄膜碎屑阻塞后,通過閥門開關(guān)60關(guān)閉當(dāng)前級別腔室101對應(yīng)的存儲箱20與過濾器30之間的液體流通,從而可以在閥門開關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過濾器30進(jìn)行清理并不會導(dǎo)致之后的下一級腔室102的剝離進(jìn)程無法繼續(xù)。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級向玻璃基板分別提供剝離液;與多個腔室10分別對應(yīng)連接的多個存儲箱20,各級腔室10分別通過管道與相應(yīng)的存儲箱20連接,存儲箱20用于收集和存儲來自當(dāng)前級腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液;過濾器30用于過濾來自當(dāng)前級腔室101的存儲箱20的剝離液,并且過濾器30還可以通過管道與下一級腔室102連接,從而過濾器30可以將過濾后的剝離液輸送給下一級腔室102。各腔室10設(shè)計為適合進(jìn)行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結(jié)構(gòu)可參考現(xiàn)有設(shè)計在此不再贅述。各級腔室10分別于相應(yīng)的存儲箱20通過管道連接,腔室10中經(jīng)歷剝離制程后的剝離液可以經(jīng)管道輸送至存儲箱20中,由存儲箱20來收集和存儲。各級腔室10的存儲箱20分別與相應(yīng)的過濾器30通過管道連接,經(jīng)存儲箱20處理后的剝離液再經(jīng)相應(yīng)的過濾器30過濾后才經(jīng)管道輸送至下一級腔室102。 合肥市面上哪家剝離液主要作用上海和輝光電用的哪家的剝離液?
隨著電子元器件制作要求的提高,相關(guān)行業(yè)應(yīng)用對濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。為了適應(yīng)電子信息產(chǎn)業(yè)微處理工藝技術(shù)水平不斷提高的趨勢,并規(guī)范世界超凈高純試劑的標(biāo)準(zhǔn),國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織(SEMI)將濕電子化學(xué)品按金屬雜質(zhì)、控制粒徑、顆粒個數(shù)和應(yīng)用范圍等指標(biāo)制定國際等級分類標(biāo)準(zhǔn)。濕電子化學(xué)品在各應(yīng)用領(lǐng)域的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)有所不同,光伏太陽能電池領(lǐng)域一般只需要G1級水平;平板顯示和LED領(lǐng)域?qū)耠娮踊瘜W(xué)品的等級要求為G2、G3水平;半導(dǎo)體領(lǐng)域中,集成電路用濕電子化學(xué)品的純度要求較高,基本集中在G3、G4水平,分立器件對濕電子化學(xué)品純度的要求低于集成電路,基本集中在G2級水平。一般認(rèn)為,產(chǎn)生集成電路斷絲、短路等物理性故障的雜質(zhì)分子大小為**小線寬的1/10。因此隨著集成電路電線寬的尺寸減少,對工藝中所需的濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。從技術(shù)趨勢上看,滿足納米級集成電路加工需求是超凈高純試劑今后發(fā)展方向之一。
高世代面板)表面上,或透入其表面,而把固體物料潤濕,剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。因此,本申請中的高世代面板銅制程光刻膠剝離液由酰胺、醇醚、環(huán)胺與鏈胺、緩蝕劑、潤濕劑組成。其中,酰胺可以為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種,酰胺是用于溶解光刻膠;n-甲基甲酰胺下面簡稱″nmf″醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種,醇醚是用于潤濕、膨潤、溶解光刻膠的;二乙二醇丁醚下面簡稱″bdg″。環(huán)胺與鏈胺,用于滲透、斷開光刻膠分子間弱結(jié)合力;鏈胺:分子量的大小決定瞬間溶解力,分子量過大瞬間溶解力小,光刻膠未被完全溶解;分子量過小,對金屬的腐蝕性增強(qiáng),影響產(chǎn)品質(zhì)量。分子量一般在50g/mol-200g/mol,鏈胺為乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一種或多種;環(huán)胺:溶解光刻膠中環(huán)狀結(jié)構(gòu)的樹脂,包括氨乙基哌嗪、羥乙基哌嗪、氨乙基嗎啉中的任意一種或多種;上述鏈胺與環(huán)胺的比例在4∶1-1∶4之間。緩蝕劑,用于降低對金屬的腐蝕速度,緩蝕劑為三唑類物質(zhì),具體為苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑中的任意一種。潤濕劑。剝離液可適用不同制程光刻膠的剝離;
但現(xiàn)有的回收裝置普遍存在如下問題:剝離廢液利用水洗裝置水洗過濾出光刻膠樹脂成分,回收率低。為了解決這一問題,現(xiàn)有技術(shù)通常再向剝離廢液中加入沉淀劑繼續(xù)反應(yīng),而后沉淀過濾出光刻膠樹脂成分,但所得到的光刻膠樹脂成分品質(zhì)不宜再用于光刻膠原料,只能用于其他要求較低的樹脂需求場所。技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型的目的是為了提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置更為合理、使用方便可靠的光刻膠廢剝離液回收裝置,從根本上解決現(xiàn)有回收裝置回收率低的問題,同時分級回收輸出線性酚醛樹脂成分,分級儲存,以用于不同場合,物盡其用。為達(dá)到上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案是:一種光刻膠廢剝離液回收裝置,包括攪拌釜和與攪拌釜連通的過濾罐,攪拌釜頂部設(shè)有廢剝離液投料口,其技術(shù)要點是:所述過濾罐的數(shù)量為兩個,由一級過濾罐和二級過濾罐組成,所述一級過濾罐和二級過濾罐在垂直方向上位于攪拌釜下方,一級過濾罐和二級過濾罐的進(jìn)料管路分別與攪拌釜底部連通,且進(jìn)料管路上分別設(shè)有電磁閥,所述一級過濾罐的底部出液口連接有提升泵,所述提升泵的出料管路末端與攪拌釜頂部的循環(huán)料口連通,所述攪拌釜頂部另設(shè)有功能切換口。剝離液的組成成分是什么;南京半導(dǎo)體剝離液配方技術(shù)
剝離液的配方是什么?南通顯示面板用剝離液供應(yīng)商
按照組成成分和應(yīng)用工藝不同,濕電子化學(xué)品可分為通用性和功能性濕電子化學(xué)品。通用濕電子化學(xué)品以超凈高純試劑為主,一般為單組份、單功能、被大量使用的液體化學(xué)品,按照性質(zhì)劃分可分為:酸類、堿類、有機(jī)溶劑類和其他類。酸類包括氫氟酸、硝酸、鹽酸、硫酸、磷酸等;堿類包括氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀等;有機(jī)溶劑類包括甲醇、乙醇、異丙醇、**、乙酸乙酯等;其他類包括雙氧水等。功能濕電子化學(xué)品指通過復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的復(fù)配類化學(xué)品,即在單一的超凈高純試劑(或多種超凈高純試劑的配合)基礎(chǔ)上,加入水、有機(jī)溶劑、螯合劑、表面活性劑混合而成的化學(xué)品。例如剝離液、顯影液、蝕刻液、清洗液等。由于多數(shù)功能濕電子化學(xué)品是復(fù)配的化學(xué)品,是混合物,它的理化指標(biāo)很難通過普通儀器定量檢測,只能通過應(yīng)用手段來評價其有效性。 南通顯示面板用剝離液供應(yīng)商