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山西制造超聲波霧化供應商

來源: 發布時間:2024-02-25

方式二:

噴泉霧化是常見的一種超聲波霧化形式,利用的是壓電晶片作為換能器,產生兆赫級的超聲波。當超聲換能器發射超聲波頻率為兆赫級,則超聲波及其空化場的指向性就很好,從而與其接觸的溶液將被噴起,形成“超聲噴泉”。

超聲波霧化是液體霧化中一種十分常見的霧化方式,其被廣泛應用于加濕、霧化消毒、香薰、美容、噴涂、噴霧干燥等等各種噴霧領域中。為了方便大家更快的了解超聲波霧化技術,在本文中我們將從超聲波霧化的基本原理、種類以及特點等方面進行詳細介紹。 超聲波霧化器可以用于制造化妝品包裝盒上的印刷圖案。山西制造超聲波霧化供應商

超聲波霧化

超聲噴涂與傳統的二流體噴涂相比,具有涂層均勻度高、原料利用率高、涂層厚度控制精度高、涂層厚度更薄、飛濺少、噴頭不堵塞、維護成本低等優點。而相比于真空蒸鍍、CVD等鍍膜工藝,超聲噴涂是一種更加經濟的薄膜涂覆工藝,尤其是在較大面積薄膜制備上,超聲噴涂的設備成本低于真空鍍膜設備。

超聲波噴涂的主要優勢有:

1.涂層均勻度高

通過超聲噴頭霧化后的液體顆粒分布均勻度***高于二流體噴頭,也就是俗稱的空氣噴槍,從而超聲噴頭噴涂后的涂層均勻度也就有了提高。通常情況,超聲噴涂的涂層均勻度可達到95%以上。


內蒙古智能超聲波霧化處理設備超聲波霧化器可以用于制造農藥中的微粒。

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超生波霧化是利用超聲能量使液體形成細霧滴的過程

超聲波是液體霧化有兩種方式:

1. 處于震動表面的薄液層在超聲震動下激起毛細重力波

2. 霧化方式是超聲波噴泉成霧

方式一:

兩種理論解釋,分別是微激波理論和表面張力波理論。

一方面,微激波理論解釋,超聲波在液體介質中產生的空化效應導致微激波的產品從而產生霧化現象。空化的空泡崩潰時除了產生熱和光輻射外其他部分以微激波的形式輻射,當微激波達到一定強度時引起液體的霧化。

另一方面,表面張力理論認為霧滴的產生是由于液體表面波的不穩定使得液體產生霧化,具體的說當一定聲強的超聲波通過液體指向氣液界面,超聲波在此界面形成表面張力波,在與表面張力波相垂直的力的作用下,一旦震動面的振幅達到一定值,液滴即從波峰上飛出而形成霧化。

該種霧化方式主要是為了解決上述第一種單晶片壓電陶瓷霧化的能量轉化效率低這一缺點而發明的,相比于單晶片壓電陶瓷霧化,微孔網片式霧化的優點是霧化效率高,需要3-5V 的電壓激勵以及1-2W的電功率即可產生良好的霧化效果。并且,利用該技術制作的霧化裝置噴霧方向上可以更加自由,不需要累積一定量的液體才可以霧化。但是,該霧化方式也有諸多缺點,比如雖然霧化效率高,但是由于實際是靠金屬薄片振動,其振動力要遠小于壓電陶瓷,故此它能夠提供的霧化量和霧化能力很低,霧化量通常不足10ml/h,能夠霧化的液體粘度也為1-2cps。因此也只能霧化與水相近的少量液體。另外,由于微孔太小,霧化液體中的溶質或雜質很容易造成微孔堵塞而使霧化裝置無法霧化。當自上而下噴霧時,如果霧化液體過多會積壓在微孔網片上,也會造成無法振動霧化的情況。超聲波霧化器可以用于制備高分子材料,如聚酰亞胺膜等。

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憑借極小的霧化顆粒這一優勢,單晶片壓電陶瓷式超聲波霧化被用于噴霧熱解法超細粉體制備的先進材料制造領域。噴霧熱解是將一般為鹽溶液的前驅體液體霧化成微小液滴,然后送入高溫爐中進行熱分解反應,反應后金屬鹽溶液液滴會干燥裂解成金屬氧化物顆粒,從而實現超細粉體顆粒的制備。

但是,單晶片壓電陶瓷式超聲霧化技術的缺點是必須額外的結構來組成完整的霧化裝置,該結構通常較為復雜,因為單晶片壓電陶瓷換能器(超聲波霧化片)必須浸入在液體中,并且要有一定的液位高度和成霧高度(超聲波能量會將液體激起一個水柱噴泉,水柱的高度即為成霧高度)才可以實現霧化,故此霧化方向通常受到限制,不能自上而下的噴霧,同時霧化液體需要累積到一定量才可以霧化。 超聲波霧化器是指應用于醫療方面霧化設備。浙江國產超聲波霧化廠家直銷

超聲波液體處理可以制備高分子材料,如聚酰亞胺膜等。山西制造超聲波霧化供應商

美國的Sono-Tek、USI和我們東方金榮Siansonic公司先后掌握了此項超聲霧化技術,憑借該超聲霧化技術的獨特優勢,可以將各種溶液、溶膠、懸浮液等超聲霧化后沉積在基材表面形成均勻的薄膜涂層,從而將超聲霧化技術從加濕、霧化吸入等傳統領域帶入到全新而廣闊的薄膜涂層等先進材料領域。圖5展示了東方金榮朗之萬式超聲波噴頭霧化時的狀態。

基于該種超聲霧化技術的薄膜涂層制備工藝被成為“超聲波噴涂”,已被廣泛應用于生物醫療、新能源、微電子半導體、玻璃制造、納米材料等各種制造領域。同時,該技術也同樣可以應用于噴霧熱解、噴霧干燥等超細粉體制備的先進材料制造領域。當然,朗之萬式換能器的超聲波霧化技術也同樣存在自己的技術缺點,其比較大缺點是霧化粒徑比較大,這是由于朗之萬變幅桿式超聲波換能器的頻率不能很高,通常只能在20-200kHz之間,所以能夠達到的**小霧化顆粒也要在10微米以上,對于要求霧化粒徑很小的領域,該種霧化方式則不法適應。 山西制造超聲波霧化供應商