氧化鋁又稱為剛玉，在摩氏硬度表中位列第9級，具有很大的硬度。又因有六角柱體的晶格結構，十分適合再研磨材料。且相對比鉆石更低廉的價錢。所以氧化鋁它成為研磨和拋光的好材料。氧化鋁拋光液的特點氧化鋁拋光液具有硬度高、磨削力強、適用范圍廣等優點。模氏硬度可達5500-8000kg/mm2。不易產生劃痕，粒度分布范圍窄，研磨后材料表面質量好，粒徑有1.0CR、0.3CR、0.1CR、0.05CR幾種可供選擇。氧化鋁拋光液的應用1、電子行業：電子行業單晶硅片的研磨以及PCB金相切片的研磨；2、裝飾行業：不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光；3、噴涂材料：等離子噴涂；4、光學玻璃冷加工。本公司銷售的氧化硅拋光液適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。四川堿性拋光液

依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產生高損傷層。四川物理拋光液價格本公司銷售的氧化鋁拋光液運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質量。

    陶瓷拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好；2.本產品主要由其金剛石微粉、分散穩定劑、懸浮劑、ｐＨ值調節劑、防腐劑、有機溶劑和去離子水組成，3.具有適用性強，產品分散性好，粒度均勻、規格齊全、品質穩定等特點。產品概述本產品是專門針對陶瓷的一款高效研磨液，能快速去除表面缺陷，具有一定的潤滑、冷卻作用，易于研磨后的清洗，懸浮性能好，金屬離子螯合能力強。主要成分：金剛石/硅溶膠應用領域：廣泛應用于各類陶瓷制品（氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等）工件的研磨，具有良好的研磨效果。產品特點：1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質、對環境友好。2.本產品主要由其金剛石微粉、分散穩定劑、懸浮劑、ｐＨ值調節劑、防腐劑、有機溶劑和去離子水組成。3.具有適用性強、產品分散性好、粒度均勻、規格齊全、品質穩定等特點。

氧化鋁拋光液。α-氧化鋁（剛玉）硬度高，穩定性好，納米氧化鋁適用于光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光，是一種使用的無機磨料。現在以高亮度Ga N基藍光LED為的半導體照明技術對照明領域帶來了很大的沖擊，并成為目前全球半導體領域研究的熱點。但由于Ga N很難制備，必須在其他襯底材料上外延生長薄膜，作為Ga N的襯底材料有多種，目前，藍光和白光LED 芯片均采用藍寶石晶片或碳化硅晶片為襯底晶片，因此，晶片的拋光也成為關注的焦點。近年來，國際上采用了一種新的工藝，即用Al2O3拋光液一次完成藍寶石晶片研磨和拋光，提高藍寶石和Si C晶片的拋光效率。本公司銷售的納米拋光液應用范圍：催化劑、催化載體、分析試劑。

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