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北京碳化硅襯底進口

來源: 發布時間:2022-08-21

相同規格的碳化硅基MOSFET與硅基MOSFET相比,其尺寸可大幅減小至原來的1/10,導通電阻可至少降低至原來的1/100。相同規格的碳化硅基MOSFET較硅基IGBT的總能量損耗可降低70%。碳化硅功率器件具有高電壓、大電流、高溫、高頻率、低損耗等獨特優勢,將極大提高現有使用硅基功率器件的能源轉換效率,未來將主要應用領域有電動汽車/充電樁、光伏新能源、軌道交通、智能電網等。市場空間:據 Yole 統計,2020 年 SiC 碳化硅功率器件市場規模約 7.1 億美元,預計 2026 年將增長至 45 億美元,2020-2026 年 CAGR 近 36%。其中,新能源汽車是 SiC 功率器件下游重要的應用市場,預計需求于 2023 年開始快速爆發。SiC在很寬的光譜范圍(2.2~3.2eV)內也有良好的發光特性。北京碳化硅襯底進口

半導體材料是碳化硅相當有前景的應用領域之一,碳化硅是目前發展成熟的第三代半導體材料。隨著生產成本的降低,SiC半導體正在逐步取代一、二代半導體。碳化硅半導體產業鏈主要包括碳化硅高純粉料、單晶襯底、外延片、功率器件、模塊封裝和終端應用等環節。在第三代半導體應用中,碳化硅半導體的優勢在于可與氮化鎵半導體互補,氮化鎵半導體材料的市場應用領域集中在1000V以下,偏向中低電壓范圍,目前商業碳化硅半導體產品電壓等級為600~1700V。由于SiC器件高轉換效率、低發熱特性和輕量化等優勢,下業需求持續增加,有取代SiO2器件的趨勢。江蘇n型碳化硅襯底碳化硅可在超過200℃的高溫下長期穩定地工作。

新能源汽車是碳化硅功率器件市場的主要增長驅動。SiC功率器件主要應用于新能源車逆變器、DC/DC轉換器、電機驅動器和車載充電器(OBC)等電控領域,以完成較Si更高效的電能轉換。預計隨著新能源車需求快速爆發,以及SiC襯底工藝成熟、帶來產業鏈降本增效,產業化進程有望提速。1)應用端:解決電動車續航痛點。據Wolfspeed測算,將純電動汽車逆變器中的功率組件改成SiC時,可降低電力電子系統的體積、重量和成本,提升車輛5%-10%的續航。據英飛凌測算,SiC器件整體損耗相比Si基器件降低80%以上,導通及開關損耗減小,有助于增加電動車續航里程。

    下游市場需求強勁,碳化硅襯底市場迎來黃金成長期導電型碳化硅襯底方面,受益于新能源汽車逆變器的巨大需求,將保持高速增長態勢,根據中國寬禁帶功率半導體及應用產業聯盟的數據顯示,預計2020-2025年國內市場的需求,4英寸逐步從10萬片市場減少到5萬片,6英寸晶圓將從8萬片增長到20萬片;2025~2030年:4英寸晶圓將逐漸退出市場,6英寸晶圓將增長至40萬片。半絕緣型碳化硅襯底方面,受下游5G基站強勁需求驅動,碳化硅基氮化鎵高頻射頻器件將逐步加強市場滲透,市場空間廣闊,預計2020-2025年國內市場的需求,4英寸逐步從5萬片市場減少到2萬片,6英寸晶圓將從5萬片增長到10萬片;2025~2030年:4英寸晶圓將逐漸退出市場,保守估計6英寸晶圓將增長至20萬片。 碳化硅半導體完整產業鏈條包括:碳化硅原料-晶錠-襯底-外延-芯片-器件-模塊。

    隨著全球電子信息及太陽能光伏產業對硅晶片需求量的快速增長,硅晶片線切割用碳化硅微粉的需求量也正在迅速增加。以碳化硅(SiC)及GaN為**的寬禁帶材料,是繼Si和GaAs之后的第三代半導體。與Si及GaAs相比,SiC具有寬禁帶、高熱導率、高擊穿場強、高飽和電子漂移速率、化學性能穩定等優點。所以,SiC特別適合于制造高溫、高頻、高功率、抗輻射、抗腐蝕的電子器件。此外,六方SiC與GaN晶格和熱膨脹相匹配,也是制造高亮度GaN發光和激光二極管的理想襯底材料。SiC晶體目前主要應用于光電器件如藍綠光發光二極管以及紫外光激光二極管和功率器件包括大功率肖托基二極管,MES晶體管微波器件等。哪家的碳化硅襯底成本價比較低?浙江碳化硅襯底6寸led

哪家碳化硅襯底質量比較好一點?北京碳化硅襯底進口

SiC電子器件是微電子器件領域的研究熱點之一。SiC材料的擊穿電場有4MV/cm,很適合于制造高壓功率器件的有源層。而由于SiC襯底存在缺點等原因,將它直接用于器件制造時,性能不好。SiC襯底經過外延之后,其表面缺點減少,晶格排列整齊,表面形貌良好,比襯底大為改觀,此時將其用于制造器件可以提高器件的性能。為了提高擊穿電壓,厚的外延層、好的表面形貌和較低的摻雜濃度是必需的。一些高壓雙極性器件,需外延膜的厚度超過50μm,摻雜濃度小于2×1015cm-3,載流子壽命大過1us。對于高反壓大功率器件,需要要在4H-SiC襯底上外延一層很厚的、低摻雜濃度的外延層。為了制作10KW的大功率器件,外延層厚度要達到100μm以上。高壓、大電流、高可靠性SiC電子器件的不斷發展對SiC外延薄膜提出了更多苛刻的要求,需要通過進一步深入的研究提高厚外延生長技術。北京碳化硅襯底進口

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