半導體材料是碳化硅相當有前景的應用領域之一，碳化硅是目前發展成熟的第三代半導體材料。隨著生產成本的降低，SiC半導體正在逐步取代一、二代半導體。碳化硅半導體產業鏈主要包括碳化硅高純粉料、單晶襯底、外延片、功率器件、模塊封裝和終端應用等環節。在第三代半導體應用中，碳化硅半導體的優勢在于可與氮化鎵半導體互補，氮化鎵半導體材料的市場應用領域集中在1000V以下，偏向中低電壓范圍，目前商業碳化硅半導體產品電壓等級為600~1700V。由于SiC器件高轉換效率、低發熱特性和輕量化等優勢，下業需求持續增加，有取代SiO2器件的趨勢。碳化硅半導體（這里指4H-SiC）是新一代寬禁帶半導體。進口sic碳化硅襯底n型

功率半導體是大國重器，必將獲得國家戰略性支持。  功率半導體產業是高鐵、汽車、光伏、電網輸電等應用的上游**零部件。 功率半導體國產化是我國實現集成電路產業自主可控的關鍵環節。功率半導體必將獲得國家大基金及地方產業基金的持續戰略性支持。經過5-10年的發展，我國將出現一兩家企業躋身國際功率半導體產業**梯隊。歐美日三地把控**市場，中低端市場大陸廠商替代率穩步上升IGBT 及中高壓MOSFET 市場主要由歐美日三地企業把控，二極管、晶閘管、中低壓MOSFET 等市場國內企業在逐步蠶食海外廠商市場份額，進口替代率穩步上升。蘇州進口4寸碳化硅襯底碳化硅（指半絕緣型）是射頻微波器件的理想襯底材料。

碳化硅屬于第三代半導體材料，在低功耗、小型化、高壓、高頻的應用場景有極大優勢。第三代半導體材料以碳化硅、氮化鎵為，與前兩代半導體材料相比比較大的優勢是較寬的禁帶寬度，保證了其可擊穿更高的電場強度，適合制備耐高壓、高頻的功率器件。碳化硅產業鏈分為襯底材料制備、外延層生長、器件制造以及下游應用。通常采用物相傳輸法（PVT法）制備碳化硅單晶，再在襯底上使用化學氣相沉積法（CVD法）等生成外延片，制成相關器件。在SiC器件的產業鏈中，由于襯造工藝難度大，產業鏈價值量主要集中于上游襯底環節。

不同的SiC多型體在半導體特性方面表現出各自的特性。利用SiC的這一特點可以制作SiC不同多型體間晶格完全匹配的異質復合結構和超晶格，從而獲得性能較好的器件．其中6H-SiC結構**為穩定，適用于制造光電子器件：p-SiC比6H-SiC活潑，其電子遷移率比較高，飽和電子漂移速度**快，擊穿電場**強，較適宜于制造高溫、大功率、高頻器件，及其它薄膜材料(如A1N、GaN、金剛石等)的襯底和X射線的掩膜等。而且，β-SiC薄膜能在同屬立方晶系的Si襯底上生長，而Si襯底由于其面積大、質量高、價格低，可與Si的平面工藝相兼容，所以后續PECVD制備的SiC薄膜主要是β-SiC薄膜[2]。碳化硅半導體是新一代寬禁帶半導體。

的中端功率半導體器件是IGBT，它結合了MOSFET和雙極晶體管的特性。IGBT用于400伏至10千伏的應用。問題是功率MOSFET和IGBT正達到其理論極限，并遭受不必要的能量損失。一個設備可能會經歷能量損失，原因有兩個：傳導和開關。傳導損耗是由于器件中的電阻引起的，而開關損耗發生在開關狀態。這就是碳化硅適合的地方。基于氮化鎵（GaN）的電力半成品也正在出現。GaN和SiC都是寬帶隙技術。硅的帶隙為1.1eV。相比之下，SiC的帶隙為3.3eV，而GaN為3.4eV。DC-DC轉換器獲取蓄電池電壓，然后將其降到較低的電壓。這用于控制車窗、加熱器和其他功能。SiC會發生氧化反應，所以在其表面加一SiO2層以防止氧化。江蘇碳化硅襯底進口6寸sic

碳化硅功率器件更突出的潛力是在超高耐壓大容量功率器件（HVPD）領域。進口sic碳化硅襯底n型

碳化硅（SIC）是半導體界公認的“一種未來的材料”，是新世紀有廣闊發展潛力的新型半導體材料。預計在今后5～10年將會快速發展和有***成果出現。促使碳化硅發展的主要因素是硅（SI）材料的負載量已到達極限，以硅作為基片的半導體器件性能和能力極限已無可突破的空間。根據數據顯示，碳化硅(SiC)電力電子市場是具體而實在，且發展前景良好。這種趨勢非但不會改變，碳化硅行業還會進一步向前發展。用戶正在嘗試碳化硅技術，以應用于具體且具有發展前景的項目。進口sic碳化硅襯底n型