QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。，灰度光刻可以明顯縮短制造時間，提高生產效率。天津2GL灰度光刻系統

NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統具備了A2PL®對準雙光子光刻技術，可實現在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®在實現優異的打印質量同時兼顧打印速度，適用于微光學制造和光子封裝領域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現實時動態調制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。雙光子灰度光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術的用途和特點。

來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結合軟灰度光刻技術做后續復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心，共同合作研發了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米，可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準。Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統的標配。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的應用。

傳感器對可控技術的重要性，在眾多領域都是顯而易見的，無論是從簡單的家用電器，還是到可穿戴設備，甚至到航空應用，只有控制良好的流程才有被優化的可能。理想的傳感器應該具有高敏感度，不易故障，并且易于集成到流程中等優點。光纖端面的微型傳感器在這個方面具有巨大的潛力。這些傳感器空間占有率小，可以輕松多路復用，并且不需要額外的外部能源供應。對于這些基于光纖的傳感器的加工，雙光子聚合技術已被證明是其完美的搭檔。事實上，任何設計模型都能在微觀尺寸上被實現。然而，大多數設計都是靜態的，打印出來的部件在被加工出來后不能進行進一步的活動。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術。廣東高精度灰度光刻設備

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統的應用。天津2GL灰度光刻系統

超高速灰度光刻技術的應用不僅局限于傳統領域，還可以拓展到新興領域。例如，在新能源領域，它可以用于制造高效的太陽能電池板；在人工智能領域，它可以用于制造更快、更強大的計算芯片。這些應用將進一步推動科技的發展，為人類創造更美好的未來。超高速灰度光刻技術的發展離不開科研人員的不懈努力和創新精神。他們通過不斷突破科技邊界，攻克了一個又一個難題，從而實現了這一技術的突破。他們的付出為我們帶來了更多的機遇和挑戰，也為科技進步做出了巨大貢獻。超高速灰度光刻技術的問世，標志著科技進步的新里程碑。我們相信，在這項技術的推動下，未來將會有更多的創新和突破。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術帶來的美好未來！天津2GL灰度光刻系統