Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。該系統還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個元素。這些元件可以創造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機行業中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理。Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術的發展，為客戶提供高質量、高效率的解決方案。海南科研Nanoscribe微光學

    全新的NanoscribeQuantumX系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現了低成本的微納加工。憑借著獨有的產品優勢Nanoscribe新發布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創新獎。 北京科研Nanoscribe激光直寫更多有關增材制造的咨詢，歡迎致電納糯三維。

拉曼光譜是針對于有機組織和生物組織的一種強大的分析技術，可以根據樣品的個別光譜指紋對其進行定性，如細菌。拉曼散射的固有弱點可以通過金屬化的微納結構表面得到加強，從而創造出與樣品相互作用的信號熱點。在他們的研究中，科學家們使用雙光子聚合技術（2PP）在光纖的表面3D打印了這些微納結構，然后添加上一層薄薄的鍍金涂層。在SERS測量中，激光被耦合到光纖中并激發光纖探針的微納結構表面的信號熱點。在與分析物的相互作用中，SERS信號就可產生并被光纖傳感器收集。

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的證明。Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人等。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。走進Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司學習增材制造技術。湖南實驗室Nanoscribe工藝

這項技術具有快速、精確和可定制的特點。海南科研Nanoscribe微光學

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域，例如數據通訊，激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術，尤其是微型光子組件應用，可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。海南科研Nanoscribe微光學