磨拋耗材，納米二氧化硅成本相對較低，且具有良好的分散性、機械磨損性，高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點，是一種性能優良的CMP技術用的拋光材料.，因而常被用于金屬、藍寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導攝像管等表面精密拋光。化學機械拋光(CMP)技術是目前各類顯示屏、手機部件、藍寶石、不銹鋼、單晶硅片等領域使用普遍的表面超精密加工技術，研磨拋光材料是化學機械拋光過程中必不可少的一種耗材，常用的研拋材料有氧化飾、氧化硅、氧化鋁和金剛石鉆石)。磨拋材料，二氧化硅拋光液，用于多種材料納米級的硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等拋光加工。湖南金相砂紙磨拋耗材企業

磨拋耗材，金剛石研磨懸浮拋光液不僅適用于金相和巖相的研磨、拋光，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。金剛石懸浮液中含一定劑量的冷卻潤滑組分，實現了金剛石經久耐磨的磨拋力與冷卻、潤滑等關鍵性能有效結合，完全降低了磨拋過程產生熱損傷的可能性，保證了樣品表面的光潔度和平整度。使用方法：使用前將拋光織物用清水濕透，避免摩擦發熱；啟動拋光盤后將拋光劑輕搖后倒置噴出；噴灑拋光劑時，應以拋光盤中心為圓心沿半徑方向噴出，3-5秒即可。新織物噴灑時間應相應延長，以使織物有更好的磨拋能力；拋光過程中不斷加入適量的清水即可。上海金相轉換盤磨拋耗材磨拋耗材，氧化鋁懸浮研磨拋光液，磨料在分散劑中均勻、游離分布，適用于精密磨拋。

磨拋耗材，化學拋光化學拋光是將試樣浸入一定成分的溶液中，靠化學試劑對表面的不均勻性溶解而使試樣磨面變得光亮。其優點是操作簡便，適用的試樣材料常用，不易產生金屬擾亂層，對軟金屬材料尤為適用，對試樣尺寸、形狀沒有嚴格要求。在大容器中一次可進行多個試樣的拋光并兼有浸蝕作用，化學拋光后可立即在顯微鏡下觀察。缺點是化學試劑消耗量大，成本高，掌握比較好參數（拋光液成分、新舊程度、溫度和拋光時間等）困難，易產生點蝕，夾雜物易被腐蝕掉。

磨拋耗材，二氧化硅拋光液(VK-SP50W)使用范圍：可用于微晶玻璃的表面拋光加工中；用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工；用于晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統、光導攝像管等的加工過程；普遍用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工；本產品可以作為一種添加劑，也可應用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。磨拋材料，AC覆膜紙用其復膜得到的顯微組織圖片細節清晰、反差適度、襯度較高。

磨拋耗材，氧化鋁拋光粉主要成份為Al2O3，另外含有分散劑、懸浮劑、潤滑劑、乳化劑等輔助成份，普遍用于機器制備，光學加工，飾品加工，汽車修理維護等領域。成分:氧化鋁拋光粉，主要成分是經過高溫煅燒過的Al2O3粉體。用途:主要應用在餐具行業，飾品行業，汽車配件，光學鏡片，機器電器配件等需要表面處理的行業。晶體硬度:制備氧化鋁拋光粉的煅燒溫度要高，一般都在1600以上，這樣才能保證產品有很好的硬度。單晶大小與形狀:單晶大小決定拋光產品表面紋路的粗細，容不容易清光。圓形或橢圓型的晶體容易拋出黑亮光，菱形晶體易拋出黃白光，片狀或絮狀晶體磨削力差不易出光。磨拋材料，多晶金剛石懸浮液可以為后續精密拋光加工提供了良好的條件。湖州金剛石懸浮拋光液磨拋耗材

磨拋耗材，金剛石噴霧拋光劑配合金相拋光潤滑冷卻液使用，可以使樣品的拋光效果則更加完美。湖南金相砂紙磨拋耗材企業

磨拋耗材，電解拋光機械拋光有機械力的作用，會不可避免地產生金屬變形層，使金屬擾亂層加厚，出現偽組織。而電解拋光是利用電解方法，以試樣表面作為陽極，逐漸使凹凸不平的磨面溶解成光滑平整的表面。因無機械力作用，故無變形層，亦無金屬擾亂層，能顯示材料的真實組織，并兼有浸蝕作用。適用于硬度較低的單項合金、容易產生塑性變形而引起加工硬化的金屬材料，如奧氏體不銹鋼、高錳鋼、有色金屬和易剝落硬質點的合金等試樣拋光。湖南金相砂紙磨拋耗材企業

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