電鍍銅圖形化環節主要包含掩膜、曝光、顯影幾個步驟。其中，掩膜環節是將抗刻蝕的感光材料涂覆在電池表面以遮蓋保護不需要被電鍍的區域，感光材料主要有濕膜油墨、干膜材料等。曝光、顯影環節是將圖形轉移至感光材料上，主要技術有LDI激光直寫光刻（無需掩膜）、常規掩膜光刻技術、激光開槽、噴墨打印等；其中無需掩膜的LDI激光直寫光刻技術應用潛力較大，激光開槽在BC類電池上已有量產應用，整體看圖形化技術路線有望逐步明確和定型。電鍍銅+電鍍錫的組合確實能夠有效降低生產成本，同時允許實現共線生產，有助于降低設備成本。蘇州新型電鍍銅技術

電鍍銅光刻技術是指利用光學-化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將設計好的微圖形結構轉移到覆有感光材料的晶圓、玻璃基板、覆銅板等基材表面上的微納制造技術。光刻設備是微納制造的一種關鍵設備，在泛半導體領域，根據是否使用掩膜版，光刻技術主要分為直寫光刻與掩膜光刻，其中掩膜光刻可進一步分為接近/接觸式光刻以及投影式光刻。掩膜光刻由光源發出的光束，經掩膜版在感光材料上成像，具體可分為接近、接觸式光刻以及投影光刻。其中，投影式光刻更加先進，能夠在使用相同尺寸掩膜版的情況下獲得更小比例的圖像，從而實現更精細的成像。直寫光刻也稱無掩膜光刻，是指計算機將電路設計圖形轉換為機器可識別的圖形數據，并由計算機控制光束調制器實現圖形的實時顯示，再通過光學成像系統將圖形光束聚焦成像至已涂覆感光材料的基板表面上，直接進行掃描曝光。直寫光刻既具有投影光刻的技術特點，如投影成像技術、雙臺面技術、步進式掃描曝光等，又具有投影光刻不具備的高靈活性、低成本以及縮短工藝流程等技術特點。蘇州新型電鍍銅技術非接觸式電極金屬化技術——電鍍銅。

適用電鍍銅工藝的光伏電池片產能：當前PERC生產成本相對較低，且由于具備更高效率的Ｎ型電池，如TOPCon、HJT、IBC出現，我們認為未來PERC電池會被逐步替代，PERC電池不具有采用電鍍銅工藝的必要性。N型電池作為新技術路線，降本是其規?；l展邏輯，電鍍銅工藝作為降本增效的技術，為其降本可選技術路線之一。根據CPIA對各類電池技術市場占比變化趨勢的預測，我們計算得出2022年到2030年，適用電鍍銅工藝的全球N型電池（TOPCon、HJT、IBC）產能自13.87GW增長至504.28GW。

光伏電池是光伏系統實現光電轉換的重要的器件，其制備流程主要分為清洗制絨、擴散制結、正背面鍍膜、金屬化印刷固化等幾大工藝環節。其中，金屬化環節主要用于制作光伏電池電極柵線，通過在電池兩側印刷銀漿固化金屬電極，使得電極與電池片緊密結合，形成高效的歐姆接觸以實現電流輸出。金屬化環節主要有銀漿絲網印刷、銀包銅絲印、激光轉印、電鍍銅、噴墨打印等幾類工藝，傳統的絲網印刷成熟簡單是目前主流量產技術路線，其他工藝尚未實現大規模產業化。光伏電鍍銅工藝，降本增效。

電鍍銅圖形化環節主要包含掩膜、曝光、顯影幾個步驟。其中，掩膜環節是將抗刻蝕的感光材料涂覆在電池表面以遮蓋保護不需要被電鍍的區域，感光材料主要有濕膜油墨、干膜材料等。曝光、顯影環節是將圖形轉移至感光材料上，主要技術有LDI激光直寫光刻（無需掩膜）、常規掩膜光刻技術、激光開槽、噴墨打印等；其中無需掩膜的LDI激光直寫光刻技術應用潛力較大，激光開槽在BC類電池上已有量產應用，整體看圖形化技術路線有望逐步明確和定型。HJT 電池外層的 TCO 是天然的阻擋層材料，因此 HJT 電池電鍍銅工藝也可以選擇不制備種子層。無錫泛半導體電鍍銅設備費用

電鍍銅工藝的應用范圍不斷擴大，為產品品質提升和工業設計創新提供了有力保障。蘇州新型電鍍銅技術

電鍍銅裝備中工序包括種子層制備、圖形化、電鍍三大環節，涌現多種設備方案。電鍍銅 工藝尚未定型，各環節技術方案包括（1）種子層：設備主要采用 PVD，主要技術分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用；（2）圖形化：感光材料 分為干膜和油墨，主要技術分歧在于曝光顯影環節選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽；（3）電鍍：主要技術分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導電鍍。釜川（無錫）智能科技有限公司，以半導體生產設備、太陽能電池生產設備為主要產品，打造光伏設備一體化服務。擁有強大的科研團隊，憑借技術競爭力，在清洗制絨設備、PECVD設備、PVD設備、電鍍銅設備等方面都有獨特優勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設備的交付服務。蘇州新型電鍍銅技術