技術優勢：CPS系統優良性能的基礎是它先進的示差沉降技術。高轉速：CPS可以支持的較高轉速為24,000轉/分。對于超細顆粒，其分析速度比其它產品快倍。使用速度調節技術，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(數小時或更長)的樣品，CPS可以快速得到結果。高精度標定：CPS系統使用已知的標定顆粒進行標定，與美國國家標準和技術研究院(NIST)相兼容的標準保證了分析結果的一致性和精確度。使用內標法，也即把已知標定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結果可以達到±0.25%的精度。馳光機電科技有限公司用先進的生產工藝和規范的質量管理，打造優良的產品！甘肅高靈敏度納米粒度分析儀廠家

CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑，可提供更精確更穩定的測量結果，有效控制產品的質量。應用實例：光催化活性高，高度耐酸堿耐腐蝕。二氧化鈦粒度分布分析，穩定性二氧化鈦，二氧化鈦常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著大量的應用，從油漆到食用色素到化妝品和護膚品，因此二氧化鈦的粒徑測量十分重要。例如納米二氧化鈦顆?？梢杂糜诜罆袢橐海驗樗鼈兩⑸涞目梢姽獗扔糜谄胀ㄍ苛匣蛘哳伭现械亩趸侇w粒小，同時還能提供紫外線保護。西藏激光粒度粒形分析儀哪家好我們完善的售后服務，讓客戶買的放心，用的安心。

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環節。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生。

標定CPS使用的標定顆粒都與美國標準和技術研究院(NIST)的其它標準進行過交叉對比，確保均值、峰寬或者半峰寬等方面的誤差在±2%之內，而且顆粒的團聚性也符合要求?？蛇x標定顆粒：直徑小于10微米的標定顆粒通常以懸液的形式保存在水中，當然也可以保存在非水基懸液中。大于10微米可以有三種形態，水基懸液，非水基懸液或者干粉狀態。每一套標定顆粒都有其粒度分析結果和分析證書。應用實例：PEDOT及其復合材料的粒徑測量PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環境穩定性。馳光機電科技有限公司是多層次的團體與管理模式。

C-Quand在線EDXRF分析儀在PTA工藝中的應用，產品綜述：精對苯二甲酸，英文名簡稱為PTA，它是聚酯生產鏈的重要組成部分，是中國重要的化工原料。PTA可用于生產聚酯，合成纖維和增塑劑等，它們大量用于工業塑料，薄膜，涂料和其他領域。作為紡織化纖和石油化工兩大行業的重要中間體，PTA起著重要的承上啟下作用。測量的必要性：通過添加醋酸鈷和醋酸錳以及四溴乙烷催化劑，對二甲苯氧化可以制取苯二甲酸（TA）。如果能夠對催化劑元素含量（鈷、錳和溴Br）進行連續在線分析，可以更好地控制工藝公司狠抓產品質量的提高，逐年立項對制造、檢測、試驗裝置進行技術改造。北京CPS高精度納米粒度分析儀報價

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氧化鋅可以應用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設備在有關工藝優化和產品質量等重要問題上有重要的參考價值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準確的表征病毒顆粒的團聚情況。CPS納米粒度分析儀測定不同處理方式下病毒顆粒的團聚情況的結果，儀器使用轉速為24,000轉/分?？梢悦黠@看到病毒顆粒是否發生團聚現象，儀器分辨率很好。CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況。甘肅高靈敏度納米粒度分析儀廠家

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