在硅片柵線的厚度測量過程中,創(chuàng)視智能TS-C系列光譜共焦傳感器和CCS控制器被使用。TS-C系列光譜共焦位移傳感器具有0.025 μm的重復精度,±0.02%的線性精度,10kHz的測量速度和±60°的測量角度。它適用于鏡面、透明、半透明、膜層、金屬粗糙面和多層玻璃等材料表面,支持485 、USB、以太網(wǎng)和模擬量數(shù)據(jù)傳輸接口。在測量太陽能光伏板硅片柵線厚度時,使用單探頭在二維運動平臺上進行掃描測量。柵線厚度可通過柵線高度與基底高度之差獲得,通過將需要掃描測量的硅片標記三個區(qū)域并使用光譜共焦C1200單探頭單側(cè)測量來完成測量。由于柵線不是平整面,并且有一定的曲率,因此對于測量區(qū)域的選擇具有較大的隨機性影響。光譜共焦位移傳感器可以用于材料、結(jié)構(gòu)和生物等領域的位移和形變測量。高采樣速率光譜共焦檢測
譜共焦位移傳感器是一種高精度的光學測量儀器,主要應用于工業(yè)生產(chǎn)、科學研究和質(zhì)量控制等領域。特別是在工業(yè)制造中,比如汽車工業(yè)的發(fā)動機制造領域,氣缸內(nèi)壁的精度對發(fā)動機的性能和可靠性有著直接的影響。光譜共焦位移傳感器可以實現(xiàn)非接觸式測量,提供高精度和高分辨率的數(shù)據(jù),制造商得以更好地掌握產(chǎn)品質(zhì)量并提高生產(chǎn)效率。它利用激光共焦成像原理,能夠準確測量金屬內(nèi)壁表面形貌,包括凹 凸、微觀結(jié)構(gòu)和表面粗糙度等參數(shù)。這些數(shù)據(jù)對保證發(fā)動機氣缸內(nèi)壁的精密性和一致性非常重要,從而保障發(fā)動機性能和長期可靠性。此外,在科學研究領域,光譜共焦位移傳感器也扮演關鍵角色,幫助研究者進一步了解各種材料的微觀特性和表面形態(tài),推動材料科學、工程技術(shù)進步和開發(fā)創(chuàng)新應用。有哪些光譜共焦哪個品牌好線性色散設計的光譜共焦測量技術(shù)是一種新型的測量方法。
玻璃基板是液晶顯示屏必不可少的零部件之一,一張液晶顯示屏要用二張玻璃基板,各自做為底層玻璃基板和彩色濾底版應用。玻璃基板的品質(zhì)對控制面板成品屏幕分辨率、透光性、厚度、凈重、可視角度等數(shù)據(jù)都是有關鍵危害。玻璃基板是組成液晶顯示屏元器件一個基本上構(gòu)件。這是一種表層極為平坦的方法生產(chǎn)制造薄玻璃鏡片。現(xiàn)階段在商業(yè)上運用的玻璃基板,其厚度為0.7 mm及0.5m m,且將要邁進特薄(如0.4mm)厚度之制造。大部分,一片TFT-LCD控制面板需用到二片玻璃基板。因為玻璃基板厚度很薄,而厚度規(guī)格監(jiān)管又比較嚴格,一般在0.01mm的公差,關鍵清晰地測量夾層玻璃厚度、漲縮和平面度。選用創(chuàng)視智能自主生產(chǎn)研發(fā)的高精度光譜共焦位移傳感器可以非常好的處理這一難題 ,一次測量就可以完成了相對高度值、厚度系數(shù)的收集,再加上與此同時選用多個感應器測量,不僅提高了高效率,并且防止觸碰測量所造成的二次損害。
隨著精密儀器制造業(yè)的發(fā)展,對工業(yè)生產(chǎn)測量的精度和適應性要求越來越高,需要具有高精度、適應性強和實時無損檢測等特性的位移傳感器。光譜共焦位移傳感器的問世解決了這個問題,它是一種非接觸式光電位移傳感器,可達到亞微米級甚至更高的測量精度。傳感器對于雜光等干擾光線并不敏感,具有較強的抵抗能力,適應性強,且具有小型化的特點,應用前景廣闊。光學色散鏡頭是光譜共焦位移傳感器的重要組成部分之一 ,其性能參數(shù)對于位移傳感器的測量精度和分辨率具有決定性作用。光譜共焦技術(shù)具有很大的市場潛力。
光譜共焦位移傳感器包括光源、透鏡組和控制箱等組成部分。光源發(fā)出一束白光,透鏡組將其發(fā)散成一系列波長不同的單色光,通過同軸聚焦在一定范圍內(nèi)形成一個連續(xù)的焦點組 ,每個焦點的單色光波長對應一個軸向位置。當樣品位于焦點范圍內(nèi)時,樣品表面會聚焦后的光反射回去,這些反射回來的光再經(jīng)過與鏡頭組焦距相同的聚焦鏡再次聚焦后通過狹縫進入控制箱中的單色儀。因此,只有位于樣品表面的焦點位置才能聚焦在狹縫上,單色儀將該波長的光分離出來,由控制箱中的光電組件識別并獲取樣品的軸向位置。采用高數(shù)值孔徑的聚焦鏡頭可以使傳感器達到較高分辨率,滿足薄膜厚度分布測量要求。光譜共焦技術(shù)的精度可以達到納米級別。有哪些光譜共焦哪個品牌好
光譜共焦位移傳感器具有非接觸式測量的優(yōu)勢,可以在微觀尺度下進行精確的位移測量。高采樣速率光譜共焦檢測
采用對比測試方法,首先對基于白光共焦光譜技術(shù)的靶丸外表面輪廓測量精度進行了考核,為了便于比較,將原子力顯微鏡輪廓儀的測量數(shù)據(jù)進行了偏移。結(jié)果得出,二者的低階輪廓整體相似,局部的輪廓信息存在一定的偏差,原因在于二者在靶丸赤道附近的精確測量圓周輪廓結(jié)果不一致;此外,白光共焦光譜的信噪比較原子力低,這表明白光共焦光譜適用于靶丸表面低階的輪廓誤差的測量。從靶丸外表面輪廓原子力顯微鏡輪廓儀測量數(shù)據(jù)和白光共焦光譜輪廓儀測量數(shù)據(jù)的功率譜曲線中可以看出,在模數(shù)低于100的功率譜范圍內(nèi),兩種方法的測量結(jié)果一致性較好,當模數(shù)大于100時,白光共焦光譜的測量數(shù)據(jù)大于原子力顯微鏡的測量數(shù)據(jù),這也反應了白光共焦光譜儀在高頻段測量數(shù)據(jù)信噪比相對較差的特點。由于光譜傳感器Z向分辨率比原子力低一個量級,同時,受環(huán)境振動、光譜儀采樣率及樣品表面散射光等因素的影響,共焦光譜檢測數(shù)據(jù)高頻隨機噪聲可達100nm左右 。高采樣速率光譜共焦檢測