白光干涉的相干原理早在1975年就被提出，并在1976年實現了在光纖通信領域中的應用。1983年，Brian Culshaw的研究小組報道了白光干涉技術在光纖傳感領域中的應用。隨后在1984年，報道了基于白光干涉原理的完整的位移傳感系統。這項研究成果證明了白光干涉技術可以用于測量能夠轉換成位移的物理參量。此后的幾年中，白光干涉技術應用于溫度、壓力等的研究也相繼被報道。自上世紀90年代以來，白光干涉技術得到了快速發展，提供了更多實現測量的解決方案。近年來，由于傳感器設計和研制的進步，信號處理的新方案提出，以及傳感器的多路復用等技術的發展，使白光干涉測量技術的發展更加迅速。可以配合不同的軟件進行分析和數據處理，例如建立數據庫、統計數據等。高精度膜厚儀供應鏈

在初始相位為零的情況下，當被測光與參考光之間的光程差為零時，光強度將達到最大值。為了探測兩個光束之間的零光程差位置，需要使用精密Z向運動臺帶動干涉鏡頭作垂直掃描運動，或移動載物臺。在垂直掃描過程中，可以用探測器記錄下干涉光強，得到白光干涉信號強度與Z向掃描位置（兩光束光程差）之間的變化曲線。通過干涉圖像序列中某波長處的白光信號強度隨光程差變化的示意圖，可以找到光強極大值位置，即為零光程差位置。通過精確確定零光程差位置，可以實現樣品表面相對位移的精密測量。同時，通過確定最大值對應的Z向位置，也可以獲得被測樣品表面的三維高度。品牌膜厚儀零售價格該儀器的工作原理是通過測量反射光的干涉來計算膜層厚度，基于反射率和相位差。

白光干涉的分析方法利用白光干涉感知空間位置的變化，從而得到被測物體的信息。它是在單色光相移干涉術的基礎上發展而來的。單色光相移干涉術利用光路使參考光和被測表面的反射光發生干涉，再使用相移的方法調制相位，利用干涉場中光強的變化計算出其每個數據點的初始相位，但是這樣得到的相位是位于（-π，+π]間，所以得到的是不連續的相位。因此，需要進行相位展開使其變為連續相位。再利用高度與相位的信息求出被測物體的表面形貌。單色光相移法具有測量速度快、測量分辨力高、對背景光強不敏感等優點。但是，由于單色光干涉無法確定干涉條紋的零級位置。因此，在相位解包裹中無法得到相位差的周期數，所以只能假定相位差不超過一個周期，相當于測試表面的相鄰高度不能超過四分之一波長。這就限制了其測量的范圍，使它只能測試連續結構或者光滑表面結構。

白光干涉在零光程差處，出現零級干涉條紋（在零級處，各波長光的干涉亮條紋都重合，因而零級條紋呈白色），隨著光程差的增加，光源譜寬范圍內的每條譜線各自形成的干涉條紋之間互有偏移，疊加的整體效果使條紋對比度下降。測量精度高，可以實現測量,采用白光干涉原理的測量系統的抗干擾能力強，動態范圍大，具有快速檢測和結構緊湊等優點。普通的激光干涉與白光干涉之間雖然有差別，但也有很多的共同之處。可以說，白光干涉實際上就是將白光看作一系列理想的單色光在時域上的相干疊加，在頻域上觀察到的就是不同波長對應的干涉光強變化曲線。白光干涉膜厚儀廣泛應用于半導體、光學、電子、化學等領域，為研究和開發提供了有力的手段。

薄膜作為一種特殊的微結構，近年來在電子學、力學、現代光學得到了廣泛的應用，薄膜的測試技術變得越來越重要。尤其是在厚度這一特定方向上，尺寸很小，基本上都是微觀可測量。因此，在微納測量領域中，薄膜厚度的測試是一個非常重要而且很實用的研究方向。在工業生產中，薄膜的厚度直接關系到薄膜能否正常工作。在半導體工業中，膜厚的測量是硅單晶體表面熱氧化厚度以及平整度質量控制的重要手段。薄膜的厚度影響薄膜的電磁性能、力學性能和光學性能等，所以準確地測量薄膜的厚度成為一種關鍵技術。在半導體、光學、電子、化學等領域廣泛應用，有助于研究和開發新產品。國產膜厚儀定做

光路長度越長，儀器分辨率越高，但也越容易受到干擾因素的影響，需要采取降噪措施。高精度膜厚儀供應鏈

自1986年E.Wolf證明了相關誘導光譜的變化以來，人們開始在理論和實驗上進行探討和研究。結果表明，動態的光譜位移可以產生新的濾波器，可應用于光學信號處理和加密領域。本文提出的基于白光干涉光譜單峰值波長移動的解調方案，可應用于當兩光程差非常小導致干涉光譜只有一個干涉峰的信號解調，實現納米薄膜厚度測量。在頻域干涉中，當干涉光程差超過光源相干長度時，仍然可以觀察到干涉條紋。這種現象是因為白光光源的光譜可以看成是許多單色光的疊加，每一列單色光的相干長度都是無限的。當使用光譜儀接收干涉光譜時，由于光譜儀光柵的分光作用，寬光譜的白光變成了窄帶光譜，導致相干長度發生變化。高精度膜厚儀供應鏈