化學(xué)機(jī)械作用研磨液:化學(xué)機(jī)械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理,即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面,是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù),它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨液又稱為化學(xué)機(jī)械拋光液(Chemical Mechanical Polishing,簡(jiǎn)稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下,被拋光工件相對(duì)于拋光墊作相對(duì)運(yùn)動(dòng),借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合,在被研磨的工件表面形成光潔表面。哪家的拋光液性價(jià)比比較高?浙江物理拋光液 不銹鋼拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)...
氧化硅拋光液經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的粒徑控制和專業(yè)的加工工藝。該產(chǎn)品拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。產(chǎn)品特點(diǎn):1.分散性好、不結(jié)晶。2.粒徑分布***:5-100nm。3.高純度(Cu2+含量小于50ppb),有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污。4.經(jīng)特殊工藝合成的化學(xué)機(jī)械拋光液,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質(zhì)量的拋光精度。5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。使用方法:1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進(jìn)行5-20倍稀釋。2.稀釋后,粗拋時(shí)調(diào)節(jié)PH至11左右,精拋時(shí)調(diào)節(jié)PH至9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分?jǐn)嚢柘侣尤搿?.循環(huán)...
拋光液對(duì)大家來(lái)說(shuō)可能是一個(gè)很陌生的東西,也不太了解這是用來(lái)干什么的,但它與我們的生活其實(shí)息息相關(guān)。就讓小編來(lái)帶大家了解一下到底什么是拋光液,它到底有什么特點(diǎn)。1.拋光液具有很好的去油污清洗功能拋光液是一種化學(xué)產(chǎn)品,對(duì)于去油污,清洗,防銹一方面可以發(fā)揮很重要的作用,清洗過(guò)后會(huì)使金屬顯露出真實(shí)的金屬顏色。2.拋光液可以用來(lái)處理材料表面的粗糙度主要靠拋光液中的磨料或者拋光液中的化學(xué)成分作用,來(lái)使物體表面的粗糙程度降低。在LED行業(yè)加工過(guò)程中就需要對(duì)其產(chǎn)品進(jìn)行拋光,例如藍(lán)寶石的硬度就非常高,普通磨料很難對(duì)其進(jìn)行加工,這時(shí)拋光液就會(huì)發(fā)揮很大的作用。3.拋光液具有無(wú)毒不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染的功能雖然說(shuō)拋光...
在化學(xué)機(jī)械拋光中運(yùn)用的氧化鋁磨料,常選用硬度大、性能安穩(wěn)、不溶于水、不溶于酸堿的納米α-Al2O3。作為化學(xué)機(jī)械拋光磨料,氧化鋁顆粒的巨細(xì)、形狀、粒度散布都影響拋光效果。在LED行業(yè),CMP拋光液中常選用粒徑50~200nm、粒徑散布均勻的納米α-Al2O3。近年來(lái)對(duì)α-Al2O3磨料顆粒的研討主要會(huì)集在納米級(jí)球形顆粒的制備上。常見(jiàn)制備辦法有以下幾種。固相法。其間的硫酸鋁銨熱解法、改進(jìn)拜爾法、法等是比較老練的制備辦法。固相法制備超細(xì)粉體的流程簡(jiǎn)單,無(wú)需溶劑,產(chǎn)率較高,但生成的粉體易發(fā)作聚會(huì),且粒度不易操控,難以得到散布均勻的小粒徑的高質(zhì)量納米粉體。如何正確使用拋光液的。江蘇國(guó)產(chǎn)拋光液價(jià)格 ...
研磨拋光液是不同于固結(jié)磨具,涂附磨具的另一類“磨具”,磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨,拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序,行業(yè)中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。研磨拋光液分類編輯研磨液按其作用機(jī)理分:機(jī)械作用研磨液,化學(xué)機(jī)械作用研磨液。機(jī)械作用的研磨液:以金剛石、B4C等為磨料,通過(guò)添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中,從而形成具有磨削作用的液體,稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布,利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理,實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)...
硝酸鉛、糊精、阿拉伯樹(shù)膠:?jiǎn)为?dú)或協(xié)同運(yùn)用可用作硝酸-氟化氫銨型拋光溶液能減少拋光流程中對(duì)鋁的蝕刻速率,糊精和阿拉伯樹(shù)膠還能改進(jìn)其光澤性。除以上添加劑外還有鉻酐、三價(jià)鉻、鋅、磺化物、氨基酸、草酸、陰離子表面活性劑、檸檬酸等都能夠做為旨在改進(jìn)拋光質(zhì)量的加入物質(zhì)。尤其需要一提的是三價(jià)鉻和氨基酸,適合的加入量可得到帶藍(lán)白的拋光效果。氯離子和氟離子使拋光面粗化,適當(dāng)?shù)姆x子能夠得到均勻而細(xì)的粗化面,氯離子使整個(gè)表層狀態(tài)劣化。拋光液的大概費(fèi)用是多少?廣東堿性拋光液廠商化學(xué)拋光液的常見(jiàn)組分及作用;1、硝酸銀:能提高光澤度,是化學(xué)拋光中較常用的添加劑,但添加量不能過(guò)多,不然易于產(chǎn)生蝕點(diǎn),銀離子不能祛除拋光流程...
硅片拋光液1.適用于硅片工件的拋光,具有良好的拋光效果。2.應(yīng)用在航空航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)和**等領(lǐng)域。(可根據(jù)客戶的需求提供定制產(chǎn)品),產(chǎn)品概述本產(chǎn)品是專門針對(duì)硅片的一款高效拋光液,能快速去除表面缺陷,具有較好的化學(xué)物理拋光去除平衡,快速地拋出高質(zhì)量表面,而且無(wú)拋光橘皮、坑點(diǎn)等缺陷的產(chǎn)生。主要成分:硅溶膠應(yīng)用領(lǐng)域:1.適用于硅片工件的拋光,具有良好的拋光效果。2.應(yīng)用在航空航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)和**等領(lǐng)域。(可根據(jù)客戶的需求提供定制產(chǎn)品)產(chǎn)品特點(diǎn):1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好。2.本產(chǎn)品分為粗拋、中拋、精拋三個(gè)級(jí)別,用于硅片工件表面各種效果要求的拋光。3.使拋光面具...
二氧化硅膠體拋光液是以高純度的硅粉為原料,經(jīng)過(guò)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度金屬離子型拋光產(chǎn)品。用于多種納米材料的高平坦化拋光,如硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。由于二氧化硅粒度很細(xì),約0.01-0.1μm,因此拋光工件表面的損傷層極微;另外,二氧化硅的硬度和硅片的硬度相近,因此常用于對(duì)半導(dǎo)體硅片的拋光。二氧化硅是拋光液的重要組成部分,其粒徑大小、致密度、分散度等因素直接影響化學(xué)機(jī)械拋光的速率和拋光質(zhì)量。因此二氧化硅膠體的制備也是拋光液中不可缺少的工藝。質(zhì)量比較好的拋光液的公司。江蘇進(jìn)口拋光液 鎳離子:?jiǎn)为?dú)使用對(duì)于光澤度和透光度等基本上沒(méi)什么特殊的貢獻(xiàn),但當(dāng)與銅離子相互配...
不銹鋼拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好。2.本產(chǎn)品分為粗拋、中拋、精拋三個(gè)級(jí)別。3.用于各種不同型號(hào)的不銹鋼金屬表面的各種效果要求的拋光。產(chǎn)品概述本產(chǎn)品是專門針對(duì)不銹鋼拋光的一款高效拋光液,具有較好的化學(xué)物理拋光去除平衡,能快速達(dá)到拋光效果,而且無(wú)拋光橘皮、坑點(diǎn)等缺陷的產(chǎn)生。主要對(duì)不銹鋼金屬表明進(jìn)行粗加工、中加工和精加工,以達(dá)到不同的拋光效果。主要成分:氧化鋁/白剛玉/硅溶膠應(yīng)用領(lǐng)域:1.適用于各種不銹鋼材料的拋光,具有良好的拋光效果。2.主要應(yīng)用在機(jī)械制造、電子零部件、儀表儀器、輕工、鐘表零件、、航天、紡織器材、汽車零部件、軸承行業(yè)、醫(yī)療器械、精密件、工具等多種行業(yè)領(lǐng)...
硝酸鉛、糊精、阿拉伯樹(shù)膠:?jiǎn)为?dú)或協(xié)同運(yùn)用可用作硝酸-氟化氫銨型拋光溶液能減少拋光流程中對(duì)鋁的蝕刻速率,糊精和阿拉伯樹(shù)膠還能改進(jìn)其光澤性。除以上添加劑外還有鉻酐、三價(jià)鉻、鋅、磺化物、氨基酸、草酸、陰離子表面活性劑、檸檬酸等都能夠做為旨在改進(jìn)拋光質(zhì)量的加入物質(zhì)。尤其需要一提的是三價(jià)鉻和氨基酸,適合的加入量可得到帶藍(lán)白的拋光效果。氯離子和氟離子使拋光面粗化,適當(dāng)?shù)姆x子能夠得到均勻而細(xì)的粗化面,氯離子使整個(gè)表層狀態(tài)劣化。質(zhì)量好的拋光液的找誰(shuí)好?臨沂中性拋光液 依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)...
隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,為了徹底擺脫對(duì)進(jìn)口拋光液的依賴,拋光液行業(yè)在國(guó)內(nèi)的關(guān)注度逐漸上升,但在拋光液的制備及其使用過(guò)程中仍有許多問(wèn)題需要解決:(一)拋光液對(duì)環(huán)境的影響。化學(xué)機(jī)械拋光液中的化學(xué)成分,如氨、酸等有毒成分對(duì)環(huán)境和人體的傷害很大,為此,在進(jìn)一步研究拋光液制備工藝的同時(shí),拋光液的循環(huán)利用也要進(jìn)一步完善,做到經(jīng)濟(jì)發(fā)展與環(huán)境保護(hù)相協(xié)調(diào)。例如,水性體系的拋光液綠色環(huán)保,散熱快。(二)化學(xué)機(jī)械拋光液磨料粒子的分散問(wèn)題。拋光液中使用的多為納米粒子,納米粒子的比表面積較大,表面能較高,極易發(fā)生團(tuán)聚,目前國(guó)內(nèi)外常用超聲波、機(jī)械攪拌、表面處理等機(jī)械化學(xué)方法對(duì)納米磨料粒子進(jìn)行分散,但是往往達(dá)不到效果,...
研磨拋光液是不同于固結(jié)磨具,涂附磨具的另一類“磨具”,磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨,拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序,行業(yè)中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。研磨拋光液分類編輯研磨液按其作用機(jī)理分:機(jī)械作用研磨液,化學(xué)機(jī)械作用研磨液。機(jī)械作用的研磨液:以金剛石、B4C等為磨料,通過(guò)添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中,從而形成具有磨削作用的液體,稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布,利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理,實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)...
研磨液按其作用機(jī)理分:機(jī)械作用研磨液,化學(xué)機(jī)械作用研磨液。機(jī)械作用的研磨液:以金剛石、B4C等為磨料,通過(guò)添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中,從而形成具有磨削作用的液體,稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布,利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理,實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況,研磨完成后,工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以,機(jī)械作用的研磨液一般用于粗磨,后續(xù)還需要精密研磨拋光。拋光液的的性價(jià)比、質(zhì)量哪家比較好?湖北堿性拋光液加工研磨拋光液是不同于固結(jié)磨具,涂附磨具的另一類“磨具”,磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為...
氧化硅拋光液(CMP拋光液)是以高純硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光,如:硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。氧化鈰拋光液氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級(jí)CeO2為磨料的氧化鈰研磨液,該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。適用于高精密光學(xué)儀器,光學(xué)鏡頭,微晶玻璃基板,晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。氧化鋁和碳化硅拋光液是以超細(xì)氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液,主要成分是微米或亞微米級(jí)的磨料。主要用于高精密光學(xué)儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器...
多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性,在研磨拋光過(guò)程中能夠保持高磨削力的同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷,為后續(xù)精密拋光加工提供了良好的條件。用于光學(xué)晶體、陶瓷、超硬合金等各種硬質(zhì)材料的研磨和拋光。納米金剛石研磨液是由爆轟金剛石微粉在水中均勻分散而成,具有良好的分散穩(wěn)定性,適用于超精密拋光。光學(xué)玻璃和寶石對(duì)加工的精度有著極高的要求,納米金剛石研磨液可以在保持較高磨削速率的同時(shí),形成高質(zhì)量的加工表面。單晶金剛石研磨液具有良好的切削力,加工成本相對(duì)較低。適用于超硬材料、硬質(zhì)合金等硬質(zhì)材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率,又可以將磨削過(guò)程中產(chǎn)生的大量熱量迅速排走,從而避免工件表面被燒傷。拋光液的使用時(shí)要注意什么?...
不銹鋼拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好。2.本產(chǎn)品分為粗拋、中拋、精拋三個(gè)級(jí)別。3.用于各種不同型號(hào)的不銹鋼金屬表面的各種效果要求的拋光。產(chǎn)品概述本產(chǎn)品是專門針對(duì)不銹鋼拋光的一款高效拋光液,具有較好的化學(xué)物理拋光去除平衡,能快速達(dá)到拋光效果,而且無(wú)拋光橘皮、坑點(diǎn)等缺陷的產(chǎn)生。主要對(duì)不銹鋼金屬表明進(jìn)行粗加工、中加工和精加工,以達(dá)到不同的拋光效果。主要成分:氧化鋁/白剛玉/硅溶膠應(yīng)用領(lǐng)域:1.適用于各種不銹鋼材料的拋光,具有良好的拋光效果。2.主要應(yīng)用在機(jī)械制造、電子零部件、儀表儀器、輕工、鐘表零件、、航天、紡織器材、汽車零部件、軸承行業(yè)、醫(yī)療器械、精密件、工具等多種行業(yè)領(lǐng)...
LED行業(yè)目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍(lán)寶石,在加工過(guò)程中需要對(duì)其進(jìn)行減薄和拋光。藍(lán)寶石的硬度極高,普通磨料難以對(duì)其進(jìn)行加工。在用金剛石研磨液對(duì)藍(lán)寶石襯底表面進(jìn)行減薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實(shí)現(xiàn)了藍(lán)寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展,聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。2.半導(dǎo)體行業(yè)CMP技術(shù)還***的應(yīng)用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對(duì)基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展,對(duì)拋光技術(shù)提出了新的要求,傳統(tǒng)的拋光技術(shù)(如:基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等)雖然也可...
多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性,在研磨拋光過(guò)程中能夠保持高磨削力的同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷,為后續(xù)精密拋光加工提供了良好的條件。用于光學(xué)晶體、陶瓷、超硬合金等各種硬質(zhì)材料的研磨和拋光。納米金剛石研磨液是由爆轟金剛石微粉在水中均勻分散而成,具有良好的分散穩(wěn)定性,適用于超精密拋光。光學(xué)玻璃和寶石對(duì)加工的精度有著極高的要求,納米金剛石研磨液可以在保持較高磨削速率的同時(shí),形成高質(zhì)量的加工表面。單晶金剛石研磨液具有良好的切削力,加工成本相對(duì)較低。適用于超硬材料、硬質(zhì)合金等硬質(zhì)材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率,又可以將磨削過(guò)程中產(chǎn)生的大量熱量迅速排走,從而避免工件表面被燒傷。哪家的拋光液比較好用點(diǎn)?山...
鎳離子:?jiǎn)为?dú)使用對(duì)于光澤度和透光度等基本上沒(méi)什么特殊的貢獻(xiàn),但當(dāng)與銅離子相互配合時(shí)能夠提高拋光的透光性及光滑度,以合適的比例添加拋光溶液中能夠得到光滑度及光澤度優(yōu)異的拋光作用,添加量通常以銅的添加量為基準(zhǔn)點(diǎn),約為銅的10倍左右時(shí)其作用比較好(摩爾比以7~10倍為宜)。銨鹽:對(duì)拋光的光度和光滑度等沒(méi)什么特殊功效,但可提高拋光時(shí)氮氧化物的逸出,改進(jìn)工作環(huán)境,銨鹽能夠硫酸銨、磷酸銨、硝酸銨的形式添加,要是以硝酸銨的形式添加切不可在高溫下開(kāi)展,先要將硝酸銨溶解于少量水或磷酸中再添加,銨鹽的添加量沒(méi)有一定的要求,通常以5~50g/L為宜,銨根離子濃度越高遏制氮氧化物逸出的作用越,要是以硝酸銨...
拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類:金剛石拋光液(多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液(即CMP拋光液)、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。 [2] 多晶金剛石拋光液多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同時(shí)不易對(duì)研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。主要應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。 如何挑選一款適合自己的拋光液?上海鉆石粉拋光液21世紀(jì)國(guó)力的競(jìng)爭(zhēng)歸根到底為先進(jìn)制造能力的競(jìng)爭(zhēng),在信息時(shí)代的,主要表現(xiàn)為對(duì)電子產(chǎn)業(yè)先進(jìn)制造能力的競(jìng)爭(zhēng)。目前,電子產(chǎn)品...
目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍(lán)寶石,在加工過(guò)程中需要對(duì)其進(jìn)行減薄和拋光。藍(lán)寶石的硬度極高,普通磨料難以對(duì)其進(jìn)行加工。在用金剛石研磨液對(duì)藍(lán)寶石襯底表面進(jìn)行減薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實(shí)現(xiàn)了藍(lán)寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展,聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術(shù)還的應(yīng)用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對(duì)基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展,對(duì)拋光技術(shù)提出了新的要求,傳統(tǒng)的拋光技術(shù)(如:基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等)雖然也可以提供“光滑”的表面,但卻都是...
化學(xué)機(jī)械作用研磨液:化學(xué)機(jī)械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理,即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面,是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù),它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨液又稱為化學(xué)機(jī)械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡(jiǎn)稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下,被拋光工件相對(duì)于拋光墊作相對(duì)運(yùn)動(dòng),借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合,在被研磨的工件表面形成光潔表面。化學(xué)機(jī)械拋光液(CMP)根據(jù)磨料不同的分類:二氧化硅研磨液,氧化鈰研磨液,氧化鋁研磨液等。金剛石研磨...
依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標(biāo)明,化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng),它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程:(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。(2)拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程,要獲得質(zhì)量好的拋光片,必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用...
研磨拋光液是不同于固結(jié)磨具,涂附磨具的另一類“磨具”,磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨,拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序,行業(yè)中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。研磨拋光液分類編輯研磨液按其作用機(jī)理分:機(jī)械作用研磨液,化學(xué)機(jī)械作用研磨液。機(jī)械作用的研磨液:以金剛石、B4C等為磨料,通過(guò)添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中,從而形成具有磨削作用的液體,稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布,利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理,實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)...
隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,為了徹底擺脫對(duì)進(jìn)口拋光液的依賴,拋光液行業(yè)在國(guó)內(nèi)的關(guān)注度逐漸上升,但在拋光液的制備及其使用過(guò)程中仍有許多問(wèn)題需要解決:(一)拋光液對(duì)環(huán)境的影響。化學(xué)機(jī)械拋光液中的化學(xué)成分,如氨、酸等有毒成分對(duì)環(huán)境和人體的傷害很大,為此,在進(jìn)一步研究拋光液制備工藝的同時(shí),拋光液的循環(huán)利用也要進(jìn)一步完善,做到經(jīng)濟(jì)發(fā)展與環(huán)境保護(hù)相協(xié)調(diào)。例如,水性體系的拋光液綠色環(huán)保,散熱快。(二)化學(xué)機(jī)械拋光液磨料粒子的分散問(wèn)題。拋光液中使用的多為納米粒子,納米粒子的比表面積較大,表面能較高,極易發(fā)生團(tuán)聚,目前國(guó)內(nèi)外常用超聲波、機(jī)械攪拌、表面處理等機(jī)械化學(xué)方法對(duì)納米磨料粒子進(jìn)行分散,但是往往達(dá)不到效果,...
二氧化硅膠體拋光液是以高純度的硅粉為原料,經(jīng)過(guò)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度金屬離子型拋光產(chǎn)品。用于多種納米材料的高平坦化拋光,如硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。由于二氧化硅粒度很細(xì),約0.01-0.1μm,因此拋光工件表面的損傷層極微;另外,二氧化硅的硬度和硅片的硬度相近,因此常用于對(duì)半導(dǎo)體硅片的拋光。二氧化硅是拋光液的重要組成部分,其粒徑大小、致密度、分散度等因素直接影響化學(xué)機(jī)械拋光的速率和拋光質(zhì)量。因此二氧化硅膠體的制備也是拋光液中不可缺少的工藝。拋光液的適用人群有哪些?重慶進(jìn)口金剛石拋光液廠商 不銹鋼拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好。2.本...
陶瓷拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好;2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、pH值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成,3.具有適用性強(qiáng),產(chǎn)品分散性好,粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。產(chǎn)品概述本產(chǎn)品是專門針對(duì)陶瓷的一款高效研磨液,能快速去除表面缺陷,具有一定的潤(rùn)滑、冷卻作用,易于研磨后的清洗,懸浮性能好,金屬離子螯合能力強(qiáng)。主要成分:金剛石/硅溶膠應(yīng)用領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于各類陶瓷制品(氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等)工件的研磨,具有良好的研磨效果。產(chǎn)品特點(diǎn):1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì)、對(duì)...
金屬表面拋光技,又稱表面整平技術(shù),在整平程度要求很高的特殊情況下則稱之為鏡面加工技術(shù)。表面整平技術(shù)是隨著人類在尋求生存過(guò)程中的生產(chǎn)活動(dòng)和生活需要而發(fā)展起來(lái)的。我們的祖先在發(fā)展生產(chǎn)的過(guò)程中所使用的工具,不管是石器或是金屬工具,為了提高生產(chǎn)效率,設(shè)法把工具磨得平整、光亮、尖銳、鋒利,為了生存而與野獸搏斗、與異族的抗?fàn)幹惺褂玫慕饘傥淦鞫荚O(shè)法把其表面整平,磨得光亮、鋒利以便更好的戰(zhàn)斗。隨著生產(chǎn)力的發(fā)展,人類社會(huì)的生活逐漸由轉(zhuǎn)向和平,又貧窮轉(zhuǎn)向富裕,人們?yōu)榱颂岣咦陨淼纳钯|(zhì)量和審美,出現(xiàn)了各種生活的精飾品,這些用品也需要較好的拋光、整平以提高它的光鮮度及提高產(chǎn)品的價(jià)值。拋光液公司的聯(lián)系方式。蘇州拋光液性...
拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑,拋光液具有良好的去油污,防銹,清洗和增光性能,并能使金屬制品顯露出真實(shí)的金屬光澤。性能穩(wěn)定、無(wú)毒,對(duì)環(huán)境無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)。拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑,具有良好的去油污,防銹,清洗和增光性能,并能使金屬制品超過(guò)原有的光澤。產(chǎn)品性能穩(wěn)定、無(wú)毒,對(duì)環(huán)境無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)。光液使用方法編輯語(yǔ)音包括棘輪扳手、開(kāi)口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺絲刀等,鉛錫合金、鋅合金等金屬產(chǎn)品經(jīng)過(guò)研磨以后,再使用拋光劑配合振動(dòng)研磨光飾機(jī),滾桶式研磨光式機(jī)進(jìn)行拋光。1、拋光劑投放量為(根據(jù)不同產(chǎn)品的大小,光飾機(jī)的大小和各公司的產(chǎn)品光亮度要求進(jìn)...
據(jù)報(bào)道,早在新石器時(shí)期出土的器件中就有磨光的痕跡。大量出土的秦俑實(shí)際制作時(shí)已采用了機(jī)械磨亮的拋光技術(shù)。西漢時(shí)期的青銅鏡鏡面加工技術(shù)更是負(fù)有盛名,在《淮南子》中有對(duì)應(yīng)的描述。以上所有這些表面整平、拋光都是先用簡(jiǎn)單的具有一定粗糙度的工具與被整平物體相互摩擦達(dá)到整平的目的,然后用較細(xì)的砂粒或柔軟具有韌性的纖維物配以磨料摩擦進(jìn)一步達(dá)到光亮(拋光)的目的。如宋代已有用氧化鐵作為磨料的拋光技術(shù),這種技術(shù)要比國(guó)外早數(shù)百年。這就是早使用的表面拋光技術(shù),也是至今仍在使用的機(jī)械拋光技術(shù)的原型。隨后隨著人類社會(huì)的進(jìn)步和科學(xué)水平的提高,人們發(fā)現(xiàn)將研磨材料做成圓盤形平板或?qū)⒀心ゲ牧系牧W友b在圓盤或帶子上使其...