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藍寶石研磨液利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產生劃傷。可以應用在藍寶石襯底的研磨和減薄、光學晶體、硬質玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領域的研磨和拋光。藍寶石研磨液在藍寶石襯底方面的應用：1.外延片生產前襯底的雙面研磨：多用藍寶石研磨液研磨一道或多道，根據**終藍寶石襯底研磨要求用6um、3um、1um不等。2.LED芯片背面減薄為解決藍寶石的散熱問題，需要將藍寶石襯底的厚度減薄，從450nm左右減至100nm左右。主要有兩步：先在橫向減薄機上，用50-70um的砂輪研磨磨去300um左右的厚度；再用拋光機（秀和、NTS、WEC等）針對不同的研...

藍寶石研磨液利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產生劃傷。可以應用在藍寶石襯底的研磨和減薄、光學晶體、硬質玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領域的研磨和拋光。藍寶石研磨液在藍寶石襯底方面的應用：1.外延片生產前襯底的雙面研磨：多用藍寶石研磨液研磨一道或多道，根據**終藍寶石襯底研磨要求用6um、3um、1um不等。2.LED芯片背面減薄為解決藍寶石的散熱問題，需要將藍寶石襯底的厚度減薄，從450nm左右減至100nm左右。主要有兩步：先在橫向減薄機上，用50-70um的砂輪研磨磨去300um左右的厚度；再用拋光機（秀和、NTS、WEC等）針對不同的研...

硅片拋光液1.適用于硅片工件的拋光，具有良好的拋光效果。2.應用在航空航天、工業、農業和**等領域。（可根據客戶的需求提供定制產品），產品概述本產品是專門針對硅片的一款高效拋光液，能快速去除表面缺陷，具有較好的化學物理拋光去除平衡，快速地拋出高質量表面，而且無拋光橘皮、坑點等缺陷的產生。主要成分：硅溶膠應用領域：1.適用于硅片工件的拋光，具有良好的拋光效果。2.應用在航空航天、工業、農業和**等領域。（可根據客戶的需求提供定制產品）產品特點：1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品分為粗拋、中拋、精拋三個級別，用于硅片工件表面各種效果要求的拋光。3.使拋光面具...

氧化鋁拋光液作為較終拋光液，是為了去除樣品表面肉眼不可見的表面變形層。尤其是使用高倍物鏡、偏振光、微分干涉或EBSD技術，來檢測、評定樣品時，去除這種微小變形是必需的。當采用含有溶膠氧化鋁的MasterPrep氧化鋁拋光液，可通過純粹的機械拋光來***地去除材料，達到優異的表面處理效果。而如果選用其他種類的較終拋光液，比如具有弱堿性的***拋光液，那就要通過化學-機械的拋光方法與材料表面形成反應層，柔軟的***去除反應層，也可得到高質量的表面，相比多了化學拋光過程。因此在實際應用中，常規情況選擇氧化鋁拋光液是十分普遍的。哪家公司的拋光液的是有質量保障的？東莞堿性拋光液價格 拋光液通常...

化學機械拋光編輯 語音這兩個概念主要出半導體加工過程中，初的半導體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術——化學機械拋光技術（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術綜合了化學和機械拋光的優勢：單純的化學拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學機械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩...

氧化鋁又稱為剛玉，在摩氏硬度表中位列第9級，具有很大的硬度。又因有六角柱體的晶格結構，十分適合再研磨材料。且相對比鉆石更低廉的價錢。所以氧化鋁它成為研磨和拋光的好材料。氧化鋁拋光液的特點氧化鋁拋光液具有硬度高、磨削力強、適用范圍廣等優點。模氏硬度可達5500-8000kg/mm2。不易產生劃痕，粒度分布范圍窄，研磨后材料表面質量好，粒徑有1.0CR、0.3CR、0.1CR、0.05CR幾種可供選擇。氧化鋁拋光液的應用1、電子行業：電子行業單晶硅片的研磨以及PCB金相切片的研磨；2、裝飾行業：不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光；3、噴涂材料：等離子噴涂；4、光學玻璃冷加工。本公司銷售的氧化硅拋光液適...

目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石，在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度極高，普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實現了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業的快速發展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術還的應用于集成電路(IC)和超大規模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業的急速發展，對拋光技術提出了新的要求，傳統的拋光技術（如：基于淀積技術的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是...

氧化鈰拋光液1、產品名稱稀土拋光液2、產品型號hnys-ceria-13、用途用于手機玻璃、精密光學玻璃拋光4、技術指標化學成分含量稀土拋光粉30-40%去離子水60-70%其他成分≤3%化學或物理指標數據D500.4-0.6μmD90≤1.5μm比重≥1.20g/cm3pH值8.0-9.5顏色白色備注：以上參數可根據用戶要求適當調整。5、包裝規格20公斤/桶、50公斤/桶6、注意事項使用前請搖勻或攪拌均勻；拋光前可加水稀釋1-2倍后再使用，具體稀釋比例根據用戶現場工藝與設備自行確定。氧化鋁拋光液含有溶膠氧化鋁，可經過樸實的機械拋光來***地去除資料，達到優異的外表處理效果。上海拋光液化學拋光...

氧化鈰拋光液1、產品名稱稀土拋光液2、產品型號hnys-ceria-13、用途用于手機玻璃、精密光學玻璃拋光4、技術指標化學成分含量稀土拋光粉30-40%去離子水60-70%其他成分≤3%化學或物理指標數據D500.4-0.6μmD90≤1.5μm比重≥1.20g/cm3pH值8.0-9.5顏色白色備注：以上參數可根據用戶要求適當調整。5、包裝規格20公斤/桶、50公斤/桶6、注意事項使用前請搖勻或攪拌均勻；拋光前可加水稀釋1-2倍后再使用，具體稀釋比例根據用戶現場工藝與設備自行確定。多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質產生劃傷。深圳硅拋光液生產工...

研磨液按其作用機理分：機械作用研磨液，化學機械作用研磨液。機械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過添加分散劑等方式分散到液體介質中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實現工件的研磨、減薄。根據磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設備穩定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機械作用的研磨液一般用于粗磨，后續還需要精密研磨拋光。本公司銷售的氧化鋁拋光液運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質量。佛山研磨拋光用拋光液價格化學機械作用研磨液：化學機械作用研磨液利用...

光學玻璃拋光液是專為手機表面而研發的其操作簡便，可視污漬的多少只需將光學玻璃拋光液用超聲清洗、自動浸泡或手洗即可徹底清潔手機表面的各種污漬且不傷手機。光學玻璃拋光液具有拋光速度快、使用壽命長、良好的懸浮性、不沾附、能適合于各種材料的拋光,適合于拋光高精密玻璃,能有效解決材質劃傷和拋光粉堆積造成的表面斑點現象。一、光學玻璃拋光液技術參數1、光學玻璃拋光液中心粒徑d50：1um-1.5um2、光學玻璃拋光液PH值：7二、光學玻璃拋光液適用范圍：光學玻璃拋光液***適用于精密光學器件、硬盤基片、液晶屏幕顯示器等，高精密度光學玻璃拋光.光學鏡頭、光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。本公...

21世紀國力的競爭歸根到底為先進制造能力的競爭，在信息時代的，主要表現為對電子產業先進制造能力的競爭。目前，電子產品的先進制造業的快速發展方向為高精度、高性能、高集成度以及可靠性，因此，對加工工件表面的局部平整度和整體平整度都提出了前所未有的高要求（要求達到亞納米量級的表面粗糙度），但是國際上普遍認為，加工工件特征尺寸在0.35μm以下時，必須進行全局平坦化，而化學機械拋光不但集中了化學拋光和機械拋光的綜合優點，也是目前可以提供整體平面化的表面精加工技術就是超精密化學機械拋光技術。本公司銷售的納米拋光液應用范圍：汽車表面漆層、宇航飛機機翼前緣。基板拋光液廠家氧化鈰拋光液。二氧化鈰是玻璃拋光的通...

納米拋光液本公司有多種納米拋光液，有納米氧化鋁拋光液、納米氧化鈰拋光液，納米氧化鋯拋光液、納米氧化鎂拋光液、納米氧化鈦拋光液、納米氧化硅拋光液等。本系列納米拋光液晶相穩定、硬度有高有低、適合客戶各種軟硬材料拋光，被廣泛應用于催化劑，精密拋光，化工助劑，電子陶瓷，結構陶瓷，紫外線收劑，電池材料等領域。我公司采用先進的分散技術將納米氧化物粉體超級分散,形成高度分散化、均勻化和穩定化的納米氧化物漿料。具有更高的活性、易加入等特性，方便顧客使用。主要用途：適合各種寶石研磨拋光、電子磁性材料的研磨拋光、普通玻璃拋光，工藝玻璃拋光，水晶玻璃拋光，單晶硅片拋光，油漆表面拋光，手機外殼拋光，汽車表...

化學機械作用研磨液：化學機械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現高質量的拋光表面，是機械削磨和化學腐蝕的組合技術，它借助超微粒子的研磨作用和化學腐蝕作用在被研磨的介質表面形成光潔平坦表面。所以化學機械作用研磨液又稱為化學機械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對于拋光墊作相對運動，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機結合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。化學機械拋光液（CMP）根據磨料不同的分類：二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。金剛石研磨...

化學機械作用研磨液：化學機械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現高質量的拋光表面，是機械削磨和化學腐蝕的組合技術，它借助超微粒子的研磨作用和化學腐蝕作用在被研磨的介質表面形成光潔平坦表面。所以化學機械作用研磨液又稱為化學機械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對于拋光墊作相對運動，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機結合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。化學機械拋光液（CMP）根據磨料不同的分類：二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。金剛石研磨...

依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用...

氧化硅拋光液經過嚴格的粒徑控制和專業的加工工藝。該產品拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。產品特點：1.分散性好、不結晶。2.粒徑分布***：5-100nm。3.高純度(Cu2+含量小于50ppb)，有效減小對電子類產品的沾污。4.經特殊工藝合成的化學機械拋光液，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質量的拋光精度。5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。使用方法：1.可根據拋光操作條件用去離子水進行5-20倍稀釋。2.稀釋后，粗拋時調節PH至11左右，精拋時調節PH至9.5左右。pH調節可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。3.循環...

據報道，早在新石器時期出土的器件中就有磨光的痕跡。大量出土的秦俑實際制作時已采用了機械磨亮的拋光技術。西漢時期的青銅鏡鏡面加工技術更是負有盛名，在《淮南子》中有對應的描述。以上所有這些表面整平、拋光都是先用簡單的具有一定粗糙度的工具與被整平物體相互摩擦達到整平的目的，然后用較細的砂粒或柔軟具有韌性的纖維物配以磨料摩擦進一步達到光亮（拋光）的目的。如宋代已有用氧化鐵作為磨料的拋光技術，這種技術要比國外早數百年。這就是早使用的表面拋光技術，也是至今仍在使用的機械拋光技術的原型。隨后隨著人類社會的進步和科學水平的提高，人們發現將研磨材料做成圓盤形平板或將研磨材料的粒子裝在圓盤或帶子上使其...

化學機械作用研磨液：化學機械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現高質量的拋光表面，是機械削磨和化學腐蝕的組合技術，它借助超微粒子的研磨作用和化學腐蝕作用在被研磨的介質表面形成光潔平坦表面。所以化學機械作用研磨液又稱為化學機械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對于拋光墊作相對運動，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機結合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。化學機械拋光液（CMP）根據磨料不同的分類：二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。金剛石研磨...

化學機械拋光集中了化學拋光和機械拋光的綜合優點，純粹化學拋光腐蝕性大，拋光速率大，損傷低，表面光潔度高，但是拋光后的表面平整度差和表面一致性差；純粹的機械拋光表面平整度和表面一致性較高，但是表面損傷大，光潔度低。而化學機械拋光在不影響拋光速率的前提下，既可以獲得光潔度較高的表面，又可以提高表面平整度，是迄今可以提供整體平面化的表面精加工技術。目前國內外常用的拋光液有Si O2膠體拋光液、二氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液、納米金剛石拋光液等。本公司銷售的納米拋光液應用范圍：單晶、紅寶石、藍寶石、白寶石、釔鋁石榴石。四川物理拋光液用途 研磨拋光液是不同于固結磨具，涂附磨具的另一類“磨具”，磨...

不銹鋼拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品分為粗拋、中拋、精拋三個級別。3.用于各種不同型號的不銹鋼金屬表面的各種效果要求的拋光。產品概述本產品是專門針對不銹鋼拋光的一款高效拋光液，具有較好的化學物理拋光去除平衡，能快速達到拋光效果，而且無拋光橘皮、坑點等缺陷的產生。主要對不銹鋼金屬表明進行粗加工、中加工和精加工，以達到不同的拋光效果。主要成分：氧化鋁/白剛玉/硅溶膠應用領域：1.適用于各種不銹鋼材料的拋光，具有良好的拋光效果。2.主要應用在機械制造、電子零部件、儀表儀器、輕工、鐘表零件、、航天、紡織器材、汽車零部件、軸承行業、醫療器械、精密件、工具等多種行業領...

金屬表面拋光技，又稱表面整平技術，在整平程度要求很高的特殊情況下則稱之為鏡面加工技術。表面整平技術是隨著人類在尋求生存過程中的生產活動和生活需要而發展起來的。我們的祖先在發展生產的過程中所使用的工具，不管是石器或是金屬工具，為了提高生產效率，設法把工具磨得平整、光亮、尖銳、鋒利，為了生存而與野獸搏斗、與異族的抗爭中使用的金屬武器都設法把其表面整平，磨得光亮、鋒利以便更好的戰斗。隨著生產力的發展，人類社會的生活逐漸由轉向和平，又貧窮轉向富裕，人們為了提高自身的生活質量和審美，出現了各種生活的精飾品，這些用品也需要較好的拋光、整平以提高它的光鮮度及提高產品的價值。本公司銷售的納米拋光液應用范圍：透...

化學機械作用研磨液：化學機械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現高質量的拋光表面，是機械削磨和化學腐蝕的組合技術，它借助超微粒子的研磨作用和化學腐蝕作用在被研磨的介質表面形成光潔平坦表面。所以化學機械作用研磨液又稱為化學機械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對于拋光墊作相對運動，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機結合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。化學機械拋光液（CMP）根據磨料不同的分類：二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。金剛石研磨...

LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石，在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度極高，普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實現了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業的快速發展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術還的應用于集成電路(IC)和超大規模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業的急速發展，對拋光技術提出了新的要求，傳統的拋光技術（如：基于淀積技術的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部...

氧化鈰拋光液。二氧化鈰是玻璃拋光的通用磨削材料。隨著工件尺寸的縮小，傳統的硅容易在尺寸較大的集成電路STI（淺溝隔離）處形成蝶形缺陷。而針對STI的拋光，選擇合適的拋光液是關鍵，采用氧化鈰作為研磨顆粒的第二代拋光液，具有高選擇性和拋光終點自動停止的特性，配合粗拋和精拋，能拋光液中二氧化鈰的粒度是影響拋光效果的關鍵參數之一。目前制備出的二氧化鈰的粒徑多為微米級或亞微米級，粒度分布不均，粒徑大的溶液產生劃痕，嚴重影響到被拋光工件的拋光質量。因此，納米級二氧化鈰的制備及應用是目前研究的熱點之一。夠十分有效解決代STI工藝缺點，是目前重點發展的產品類型之一。本公司銷售的納米拋光液應用范圍：透明陶瓷：高...

光學玻璃拋光液是專為手機表面而研發的其操作簡便，可視污漬的多少只需將光學玻璃拋光液用超聲清洗、自動浸泡或手洗即可徹底清潔手機表面的各種污漬且不傷手機。光學玻璃拋光液具有拋光速度快、使用壽命長、良好的懸浮性、不沾附、能適合于各種材料的拋光,適合于拋光高精密玻璃,能有效解決材質劃傷和拋光粉堆積造成的表面斑點現象。一、光學玻璃拋光液技術參數1、光學玻璃拋光液中心粒徑d50：1um-1.5um2、光學玻璃拋光液PH值：7二、光學玻璃拋光液適用范圍：光學玻璃拋光液***適用于精密光學器件、硬盤基片、液晶屏幕顯示器等，高精密度光學玻璃拋光.光學鏡頭、光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。拋光...

金屬表面拋光技，又稱表面整平技術，在整平程度要求很高的特殊情況下則稱之為鏡面加工技術。表面整平技術是隨著人類在尋求生存過程中的生產活動和生活需要而發展起來的。我們的祖先在發展生產的過程中所使用的工具，不管是石器或是金屬工具，為了提高生產效率，設法把工具磨得平整、光亮、尖銳、鋒利，為了生存而與野獸搏斗、與異族的抗爭中使用的金屬武器都設法把其表面整平，磨得光亮、鋒利以便更好的戰斗。隨著生產力的發展，人類社會的生活逐漸由轉向和平，又貧窮轉向富裕，人們為了提高自身的生活質量和審美，出現了各種生活的精飾品，這些用品也需要較好的拋光、整平以提高它的光鮮度及提高產品的價值。本公司銷售的納米拋光液應用范圍：透...

氧化鈰拋光液。二氧化鈰是玻璃拋光的通用磨削材料。隨著工件尺寸的縮小，傳統的硅容易在尺寸較大的集成電路STI（淺溝隔離）處形成蝶形缺陷。而針對STI的拋光，選擇合適的拋光液是關鍵，采用氧化鈰作為研磨顆粒的第二代拋光液，具有高選擇性和拋光終點自動停止的特性，配合粗拋和精拋，能拋光液中二氧化鈰的粒度是影響拋光效果的關鍵參數之一。目前制備出的二氧化鈰的粒徑多為微米級或亞微米級，粒度分布不均，粒徑大的溶液產生劃痕，嚴重影響到被拋光工件的拋光質量。因此，納米級二氧化鈰的制備及應用是目前研究的熱點之一。夠十分有效解決代STI工藝缺點，是目前重點發展的產品類型之一。氧化鈰拋光液用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微...

金屬表面拋光技，又稱表面整平技術，在整平程度要求很高的特殊情況下則稱之為鏡面加工技術。表面整平技術是隨著人類在尋求生存過程中的生產活動和生活需要而發展起來的。我們的祖先在發展生產的過程中所使用的工具，不管是石器或是金屬工具，為了提高生產效率，設法把工具磨得平整、光亮、尖銳、鋒利，為了生存而與野獸搏斗、與異族的抗爭中使用的金屬武器都設法把其表面整平，磨得光亮、鋒利以便更好的戰斗。隨著生產力的發展，人類社會的生活逐漸由轉向和平，又貧窮轉向富裕，人們為了提高自身的生活質量和審美，出現了各種生活的精飾品，這些用品也需要較好的拋光、整平以提高它的光鮮度及提高產品的價值。碳化硅拋光液主要用于高精密光學儀器...

藍寶石拋光液 藍寶石拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。 藍寶石拋光液主要用于藍寶石襯底的拋光。還可***用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。 藍寶石拋光液的特點： 1.高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的。 2.高純度（Cu含量小于50 ppb），有效減小對電子類產品的沾污。 3.高平坦度加工，藍寶石拋光液是利用SiO2的膠體粒子進行拋光，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工。 藍寶石拋光液根據pH值的不...