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高錳酸鉀：可當作1種氧化劑添加到拋光溶液中，當拋光液中午硝酸時，加入高錳酸鉀能夠提升 光滑度和光亮度，在有高錳酸鉀的情形下，在拋光溶液中加入一定量的硝酸銨時，黃煙的形成量會明顯減少，甚至于沒有黃煙。高錳酸鉀的加入量一般5~10g/L。尿素：有著遏制氮氧化物逸出的功效，另外還能改進拋光效果，在運用尿素時要注意硝酸的使用量和溫度，運用尿素時如控制不合理或拋光液中有催化性雜質存在時，尿素會促使硝酸的分解而形成大量的氮氧化物氣體，另外也使拋光表層粗糙。哪家拋光液的質量比較好。上海中性拋光液 依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對...

目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石，在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度極高，普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實現了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業的快速發展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術還的應用于集成電路(IC)和超大規模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業的急速發展，對拋光技術提出了新的要求，傳統的拋光技術（如：基于淀積技術的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是...

依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作...

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品顯露出真實的金屬光澤。性能穩定、無毒，對環境無污染等優點。拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品超過原有的光澤。產品性能穩定、無毒，對環境無污染等優點。光液使用方法編輯語音包括棘輪扳手、開口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲刀等，鉛錫合金、鋅合金等金屬產品經過研磨以后，再使用拋光劑配合振動研磨光飾機，滾桶式研磨光式機進行拋光。1、拋光劑投放量為（根據不同產品的大小，光飾機的大小和各公司的產品光亮度要求進...

化學機械拋光液（CMP）根據磨料不同的分類：二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。金剛石研磨液根據磨料不同的分類：金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成，根據金剛石微粉的類型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。金剛石研磨液的應用：1、單晶金剛石研磨液單晶金剛石研磨液具有良好的切削力，加工成本相對較低。適用于超硬材料、硬質合金等硬質材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率，又可以將磨削過程中產生的大量熱量迅速排走，從而避免工件表面被燒傷。拋光液的適用人群有哪些？廣州寶石拋光液銅及銅合金拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品分為粗拋、精...

多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性，在研磨拋光過程中能夠保持高磨削力的同時不易產生劃傷，為后續精密拋光加工提供了良好的條件。用于光學晶體、陶瓷、超硬合金等各種硬質材料的研磨和拋光。納米金剛石研磨液是由爆轟金剛石微粉在水中均勻分散而成，具有良好的分散穩定性，適用于超精密拋光。光學玻璃和寶石對加工的精度有著極高的要求，納米金剛石研磨液可以在保持較高磨削速率的同時，形成高質量的加工表面。單晶金剛石研磨液具有良好的切削力，加工成本相對較低。適用于超硬材料、硬質合金等硬質材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率，又可以將磨削過程中產生的大量熱量迅速排走，從而避免工件表面被燒傷。哪家公司的拋光液的是口碑推...

氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。氧化鈰拋光液氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。適用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。氧化鋁和碳化硅拋光液是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料。主要用于高精密光學儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器...

鎳離子：單獨使用對于光澤度和透光度等基本上沒什么特殊的貢獻，但當與銅離子相互配合時能夠提高拋光的透光性及光滑度，以合適的比例添加拋光溶液中能夠得到光滑度及光澤度優異的拋光作用，添加量通常以銅的添加量為基準點，約為銅的10倍左右時其作用比較好(摩爾比以7~10倍為宜）。銨鹽：對拋光的光度和光滑度等沒什么特殊功效，但可提高拋光時氮氧化物的逸出，改進工作環境，銨鹽能夠硫酸銨、磷酸銨、硝酸銨的形式添加，要是以硝酸銨的形式添加切不可在高溫下開展，先要將硝酸銨溶解于少量水或磷酸中再添加，銨鹽的添加量沒有一定的要求，通常以5~50g/L為宜，銨根離子濃度越高遏制氮氧化物逸出的作用越，要是以硝酸銨...

化學機械拋光編輯 語音這兩個概念主要出半導體加工過程中，初的半導體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術——化學機械拋光技術（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術綜合了化學和機械拋光的優勢：單純的化學拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學機械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩...

金屬表面拋光技，又稱表面整平技術，在整平程度要求很高的特殊情況下則稱之為鏡面加工技術。表面整平技術是隨著人類在尋求生存過程中的生產活動和生活需要而發展起來的。我們的祖先在發展生產的過程中所使用的工具，不管是石器或是金屬工具，為了提高生產效率，設法把工具磨得平整、光亮、尖銳、鋒利，為了生存而與野獸搏斗、與異族的抗爭中使用的金屬武器都設法把其表面整平，磨得光亮、鋒利以便更好的戰斗。隨著生產力的發展，人類社會的生活逐漸由轉向和平，又貧窮轉向富裕，人們為了提高自身的生活質量和審美，出現了各種生活的精飾品，這些用品也需要較好的拋光、整平以提高它的光鮮度及提高產品的價值。哪家拋光液的是口碑推薦？佛山研磨拋...

銅及銅合金拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品分為粗拋、精拋兩個級別，用于銅及銅合金工件表面各種效果要求的拋光。產品概述本產品是專門針對銅及銅合金的一款高效拋光液，能快速去除銅材料表面氧化層、污物、坑點、劃痕等，快速地拋出高質量表面。主要成分：金剛石/硅溶膠應用領域：1.適用于銅及銅合金工件的拋光，具有良好的拋光效果。2.廣泛應用在電力、高鐵、汽車部件、空調、生活家電、散熱系統、精密電子、精密儀器、航空航天、通訊腔體、機箱機柜、晶振晶體等領域。產品特點：1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品分為粗拋、中拋、精拋三個級別，用于銅及銅合金工件...

玻璃拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品具有拋光速度快、使用壽命長、良好的懸浮性、易清洗等特點。3.精密拋光。產品概述本產品是專門針對玻璃的一款高效拋光液，能快速去除表面缺陷，具有較好的化學物理拋光去除平衡，快速地拋出高質量表面，而且無劃傷、阿拉比、青蛙皮等缺陷的產生。本產品適用于拋光高精密玻璃，能有效解決材質劃傷和拋光粉堆積造成的表面斑點現象。主要成分：氧化鈰/硅溶膠應用領域：1.適用于各種玻璃拋光，具有良好的拋光效果。2.適用于精密光學器件、硬盤基片、液晶屏幕顯示器，高精密度光學玻璃拋光、光學鏡頭、光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋...

硅片拋光液1.適用于硅片工件的拋光，具有良好的拋光效果。2.應用在航空航天、工業、農業和**等領域。（可根據客戶的需求提供定制產品），產品概述本產品是專門針對硅片的一款高效拋光液，能快速去除表面缺陷，具有較好的化學物理拋光去除平衡，快速地拋出高質量表面，而且無拋光橘皮、坑點等缺陷的產生。主要成分：硅溶膠應用領域：1.適用于硅片工件的拋光，具有良好的拋光效果。2.應用在航空航天、工業、農業和**等領域。（可根據客戶的需求提供定制產品）產品特點：1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品分為粗拋、中拋、精拋三個級別，用于硅片工件表面各種效果要求的拋光。3.使拋光面具...

鎳離子：單獨使用對于光澤度和透光度等基本上沒什么特殊的貢獻，但當與銅離子相互配合時能夠提高拋光的透光性及光滑度，以合適的比例添加拋光溶液中能夠得到光滑度及光澤度優異的拋光作用，添加量通常以銅的添加量為基準點，約為銅的10倍左右時其作用比較好(摩爾比以7~10倍為宜）。銨鹽：對拋光的光度和光滑度等沒什么特殊功效，但可提高拋光時氮氧化物的逸出，改進工作環境，銨鹽能夠硫酸銨、磷酸銨、硝酸銨的形式添加，要是以硝酸銨的形式添加切不可在高溫下開展，先要將硝酸銨溶解于少量水或磷酸中再添加，銨鹽的添加量沒有一定的要求，通常以5~50g/L為宜，銨根離子濃度越高遏制氮氧化物逸出的作用越，要是以硝酸銨...

氧化鋁又稱為剛玉，在摩氏硬度表中位列第9級，具有很大的硬度。又因有六角柱體的晶格結構，十分適合再研磨材料。且相對比鉆石更低廉的價錢。所以氧化鋁它成為研磨和拋光的好材料。氧化鋁拋光液的特點氧化鋁拋光液具有硬度高、磨削力強、適用范圍廣等優點。模氏硬度可達5500-8000kg/mm2。不易產生劃痕，粒度分布范圍窄，研磨后材料表面質量好，粒徑有1.0CR、0.3CR、0.1CR、0.05CR幾種可供選擇。氧化鋁拋光液的應用1、電子行業：電子行業單晶硅片的研磨以及PCB金相切片的研磨；2、裝飾行業：不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光；3、噴涂材料：等離子噴涂；4、光學玻璃冷加工。拋光液的適用人群有哪些？浙...

LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石，在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度極高，普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實現了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業的快速發展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術還的應用于集成電路(IC)和超大規模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業的急速發展，對拋光技術提出了新的要求，傳統的拋光技術（如：基于淀積技術的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部...

陶瓷拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好；2.本產品主要由其金剛石微粉、分散穩定劑、懸浮劑、ｐＨ值調節劑、防腐劑、有機溶劑和去離子水組成，3.具有適用性強，產品分散性好，粒度均勻、規格齊全、品質穩定等特點。產品概述本產品是專門針對陶瓷的一款高效研磨液，能快速去除表面缺陷，具有一定的潤滑、冷卻作用，易于研磨后的清洗，懸浮性能好，金屬離子螯合能力強。主要成分：金剛石/硅溶膠應用領域：廣泛應用于各類陶瓷制品（氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等）工件的研磨，具有良好的研磨效果。產品特點：1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質、對環境友好。2...

依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用...

玻璃拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品具有拋光速度快、使用壽命長、良好的懸浮性、易清洗等特點。3.精密拋光。產品概述本產品是專門針對玻璃的一款高效拋光液，能快速去除表面缺陷，具有較好的化學物理拋光去除平衡，快速地拋出高質量表面，而且無劃傷、阿拉比、青蛙皮等缺陷的產生。本產品適用于拋光高精密玻璃，能有效解決材質劃傷和拋光粉堆積造成的表面斑點現象。主要成分：氧化鈰/硅溶膠應用領域：1.適用于各種玻璃拋光，具有良好的拋光效果。2.適用于精密光學器件、硬盤基片、液晶屏幕顯示器，高精密度光學玻璃拋光、光學鏡頭、光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋...

21世紀國力的競爭歸根到底為先進制造能力的競爭，在信息時代的，主要表現為對電子產業先進制造能力的競爭。目前，電子產品的先進制造業的快速發展方向為高精度、高性能、高集成度以及可靠性，因此，對加工工件表面的局部平整度和整體平整度都提出了前所未有的高要求（要求達到亞納米量級的表面粗糙度），但是國際上普遍認為，加工工件特征尺寸在0.35μm以下時，必須進行全局平坦化，而化學機械拋光不但集中了化學拋光和機械拋光的綜合優點，也是目前可以提供整體平面化的表面精加工技術就是超精密化學機械拋光技術。如何正確使用拋光液的。杭州中性拋光液用途不銹鋼拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品...

光學玻璃拋光液是專為手機表面而研發的其操作簡便，可視污漬的多少只需將光學玻璃拋光液用超聲清洗、自動浸泡或手洗即可徹底清潔手機表面的各種污漬且不傷手機。光學玻璃拋光液具有拋光速度快、使用壽命長、良好的懸浮性、不沾附、能適合于各種材料的拋光,適合于拋光高精密玻璃,能有效解決材質劃傷和拋光粉堆積造成的表面斑點現象。一、光學玻璃拋光液技術參數1、光學玻璃拋光液中心粒徑d50：1um-1.5um2、光學玻璃拋光液PH值：7二、光學玻璃拋光液適用范圍：光學玻璃拋光液***適用于精密光學器件、硬盤基片、液晶屏幕顯示器等，高精密度光學玻璃拋光.光學鏡頭、光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。口碑...

納米拋光液本公司有多種納米拋光液，有納米氧化鋁拋光液、納米氧化鈰拋光液，納米氧化鋯拋光液、納米氧化鎂拋光液、納米氧化鈦拋光液、納米氧化硅拋光液等。本系列納米拋光液晶相穩定、硬度有高有低、適合客戶各種軟硬材料拋光，被廣泛應用于催化劑，精密拋光，化工助劑，電子陶瓷，結構陶瓷，紫外線收劑，電池材料等領域。我公司采用先進的分散技術將納米氧化物粉體超級分散,形成高度分散化、均勻化和穩定化的納米氧化物漿料。具有更高的活性、易加入等特性，方便顧客使用。主要用途：適合各種寶石研磨拋光、電子磁性材料的研磨拋光、普通玻璃拋光，工藝玻璃拋光，水晶玻璃拋光，單晶硅片拋光，油漆表面拋光，手機外殼拋光，汽車表...

納米拋光液本公司有多種納米拋光液，有納米氧化鋁拋光液、納米氧化鈰拋光液，納米氧化鋯拋光液、納米氧化鎂拋光液、納米氧化鈦拋光液、納米氧化硅拋光液等。本系列納米拋光液晶相穩定、硬度有高有低、適合客戶各種軟硬材料拋光，被廣泛應用于催化劑，精密拋光，化工助劑，電子陶瓷，結構陶瓷，紫外線收劑，電池材料等領域。我公司采用先進的分散技術將納米氧化物粉體超級分散,形成高度分散化、均勻化和穩定化的納米氧化物漿料。具有更高的活性、易加入等特性，方便顧客使用。主要用途：適合各種寶石研磨拋光、電子磁性材料的研磨拋光、普通玻璃拋光，工藝玻璃拋光，水晶玻璃拋光，單晶硅片拋光，油漆表面拋光，手機外殼拋光，汽車表...

21世紀國力的競爭歸根到底為先進制造能力的競爭，在信息時代的，主要表現為對電子產業先進制造能力的競爭。目前，電子產品的先進制造業的快速發展方向為高精度、高性能、高集成度以及可靠性，因此，對加工工件表面的局部平整度和整體平整度都提出了前所未有的高要求（要求達到亞納米量級的表面粗糙度），但是國際上普遍認為，加工工件特征尺寸在0.35μm以下時，必須進行全局平坦化，而化學機械拋光不但集中了化學拋光和機械拋光的綜合優點，也是目前可以提供整體平面化的表面精加工技術就是超精密化學機械拋光技術。質量比較好的拋光液的公司。杭州國產拋光液廠商納米拋光液應用范圍：1、透明陶瓷：高壓鈉燈燈管、EP-ROM窗口。2、...

玻璃拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環境友好。2.本產品具有拋光速度快、使用壽命長、良好的懸浮性、易清洗等特點。3.精密拋光。產品概述本產品是專門針對玻璃的一款高效拋光液，能快速去除表面缺陷，具有較好的化學物理拋光去除平衡，快速地拋出高質量表面，而且無劃傷、阿拉比、青蛙皮等缺陷的產生。本產品適用于拋光高精密玻璃，能有效解決材質劃傷和拋光粉堆積造成的表面斑點現象。主要成分：氧化鈰/硅溶膠應用領域：1.適用于各種玻璃拋光，具有良好的拋光效果。2.適用于精密光學器件、硬盤基片、液晶屏幕顯示器，高精密度光學玻璃拋光、光學鏡頭、光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋...

研磨拋光液是不同于固結磨具，涂附磨具的另一類“磨具”，磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨，拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序，行業中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。研磨拋光液分類編輯研磨液按其作用機理分：機械作用研磨液，化學機械作用研磨液。機械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過添加分散劑等方式分散到液體介質中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實現工件的研磨、減薄。根據磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設備穩...

氧化鋁又稱為剛玉，在摩氏硬度表中位列第9級，具有很大的硬度。又因有六角柱體的晶格結構，十分適合再研磨材料。且相對比鉆石更低廉的價錢。所以氧化鋁它成為研磨和拋光的好材料。氧化鋁拋光液的特點氧化鋁拋光液具有硬度高、磨削力強、適用范圍廣等優點。模氏硬度可達5500-8000kg/mm2。不易產生劃痕，粒度分布范圍窄，研磨后材料表面質量好，粒徑有1.0CR、0.3CR、0.1CR、0.05CR幾種可供選擇。氧化鋁拋光液的應用1、電子行業：電子行業單晶硅片的研磨以及PCB金相切片的研磨；2、裝飾行業：不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光；3、噴涂材料：等離子噴涂；4、光學玻璃冷加工。本公司銷售的氧化硅拋光液粒...

研磨液按其作用機理分：機械作用研磨液，化學機械作用研磨液。機械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過添加分散劑等方式分散到液體介質中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實現工件的研磨、減薄。根據磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設備穩定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機械作用的研磨液一般用于粗磨，后續還需要精密研磨拋光。拋光液的類別一般有哪些？湖北拋光液規格 依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對...

拋光液通常用在金屬加工流程中，是1種不包含任何的硫、磷、氯添加劑的溶水性拋光劑，拋光液有著較好的去油污，防繡，清潔和增光特性，并能使金屬制品顯現出真正的金屬質感。特性穩定、無毒，對環境零污染等優勢。化學拋光是借助拋光溶液對產品工件微觀凹凸外表的膜層形成及融解速度不同而實現拋光的目地。有關于化學拋光的使用量現階段并無一個的解釋，有2種觀點：借助產品工件在拋光流程中由于擴散的控制而形成的氧化膜層或置換層并遏制金屬的融解速度，實現研磨的目地；與此原理有關的拋光溶液基本都是濃度高的，比如說較常用的三酸、二酸拋光等，由于這類拋光溶液的黏稠度高及添加物質的功效，期間擴散速度很低。充分利用化學拋...

氧化鋁拋光液。α-氧化鋁（剛玉）硬度高，穩定性好，納米氧化鋁適用于光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光，是一種使用的無機磨料。現在以高亮度Ga N基藍光LED為的半導體照明技術對照明領域帶來了很大的沖擊，并成為目前全球半導體領域研究的熱點。但由于Ga N很難制備，必須在其他襯底材料上外延生長薄膜，作為Ga N的襯底材料有多種，目前，藍光和白光LED 芯片均采用藍寶石晶片或碳化硅晶片為襯底晶片，因此，晶片的拋光也成為關注的焦點。近年來，國際上采用了一種新的工藝，即用Al2O3拋光液一次完成藍寶石晶片研磨和拋光，提高藍寶石和Si C晶片的拋光效率。本公司銷售的氧化硅拋光...