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TC=℃）------通態平均電流VTM=V-----------通態峰值電壓VDRM=V-------------斷態正向重復峰值電壓IDRM=mA-------------斷態重復峰值電流VRRM=V-------------反向重復峰值電壓IRRM=mA------------反向重復峰值電流IGT=mA------------門極觸發電流VGT=V------------門極觸發電壓執行標準：QB-02-091．晶閘管關斷過電壓（換流過電壓、空穴積蓄效應過電壓）及保護晶閘管從導通到阻斷，線路電感（主要是變壓器漏感LB）釋放能量產生過電壓。由于晶閘管在導通期間，載流子充滿元件內部...

IGBT模塊是由IGBT（絕緣柵雙極型晶體管芯片）與FWD（續流二極管芯片）通過特定的電路橋接封裝而成的模塊化半導體產品；封裝后的IGBT模塊直接應用于變頻器、UPS不間斷電源等設備上；IGBT模塊具有節能、安裝維修方便、散熱穩定等特點；當前市場上銷售的多為此類模塊化產品，一般所說的IGBT也指IGBT模塊；隨著節能環保等理念的推進，此類產品在市場上將越來越多見。IGBT模塊連接圖IGBT模塊的安裝：為了使接觸熱阻變小，推薦在散熱器與IGBT模塊的安裝面之間涂敷散熱絕緣混合劑。涂敷散熱絕緣混合劑時，在散熱器或IGBT模塊的金屬基板面上涂敷。如圖1所示。隨著IGBT模塊與散熱器通過螺釘夾...

IGBT(絕緣柵雙極型晶體管），是由BJT(雙極結型晶體三極管)和MOS(絕緣柵型場效應管)組成的復合全控型-電壓驅動式-功率半導體器件,其具有自關斷的特征。簡單講，是一個非通即斷的開關，IGBT沒有放大電壓的功能，導通時可以看做導線，斷開時當做開路。IGBT融合了BJT和MOSFET的兩種器件的優點，如驅動功率小和飽和壓降低等。IGBT模塊是由IGBT與FWD（續流二極管芯片）通過特定的電路橋接封裝而成的模塊化半導體產品，具有節能、安裝維修方便、散熱穩定等特點。IGBT是能源轉換與傳輸的器件，是電力電子裝置的“CPU”。采用IGBT進行功率變換，能夠提高用電效率和質量，具有高效節能和...

但在中MOSFET及IGBT主流器件市場上，90％主要依賴進口，基本被國外歐美、日本企業壟斷。國外企業如英飛凌、ABB、三菱等廠商研發的IGBT器件產品規格涵蓋電壓600V-6500V，電流2A-3600A，已形成完善的IGBT產品系列。英飛凌、三菱、ABB在1700V以上電壓等級的工業IGBT領域占優勢；在3300V以上電壓等級的高壓IGBT技術領域幾乎處于壟斷地位。在大功率溝槽技術方面，英飛凌與三菱公司處于國際水平。西門康、仙童等在1700V及以下電壓等級的消費IGBT領域處于優勢地位。盡管我國擁有大的功率半導體市場，但是目前國內功率半導體產品的研發與國際大公司相比還存在很大差距，...

脈沖的幅值與柵驅動電路阻抗和dV/dt的實際數值有直接關系。IGBT本身的設計對減小C和C的比例非常重要，它可因此減小dV/dt感生電壓幅值。如果dV/dt感生電壓峰值超過IGBT的閥值，Q1產生集電極電流并產生很大的損耗，因為此時集電極到發射極的電壓很高。為了減小dV/dt感生電流和防止器件開通，可采取以下措施：關斷時采用柵極負偏置，可防止電壓峰值超過V，但問題是驅動電路會更復雜。減小IGBT的CGC寄生電容和多晶硅電阻Rg’。減小本征JFET的影響圖3給出了為反向偏置關斷而設計的典型IGBT電容曲線。CRES曲線（及其他曲線）表明一個特性，電容一直保持在較高水平，直到V接近15V，...

模塊的內部等效電路多個管芯并聯時，柵極已經加入柵極電阻，實際的等效電路如圖2所示。不同制造商的模塊，柵極電阻的阻值也不相同；不過，同一個模塊內部的柵極電阻，其阻值是相同的。圖2單管模塊內部的實際等效電路圖IGBT單管模塊通常稱為1in1模塊，前面的“1”表示內部包含一個IGBT管芯，后面的“1”表示同一個模塊塑殼之中。2.半橋模塊，2in1模塊半橋（Halfbridge）模塊也稱為2in1模塊，可直接構成半橋電路，也可以用2個半橋模塊構成全橋，3個半橋模塊也構成三相橋。因此，半橋模塊有時候也稱為橋臂（Phase-Leg）模塊。圖3是半橋模塊的內部等效。不同的制造商的接線端子名稱也有所不...

在所述柵極結構的每一側包括二個所述第二屏蔽電極結構，在其他實施例中，也能改變所述柵極結構和對應的所述第二屏蔽電極結構的數量和位置。所述溝槽101的步進為1微米～3微米，所述溝槽101的步進如圖3a中的d1所示。在所述漂移區1和所述集電區9之間形成有由一導電類型重摻雜區組成的電場中止層8。本發明一實施例中，所述igbt器件為n型器件，一導電類型為n型，第二導電類型為p型。在其他實施例中也能為：所述igbt器件為p型器件，一導電類型為p型，第二導電類型為n型。本發明一實施例具有如下有益技術效果：1、本發明一實施例對器件單元結構中的柵極結構的屏蔽結構做了特別的設置，在柵極結構的兩側設置有形成...

溝道在緊靠柵區邊界形成。在C、E兩極之間的P型區（包括P+和P-區）（溝道在該區域形成），稱為亞溝道區（Subchannelregion）。而在漏區另一側的P+區稱為漏注入區（Draininjector），它是IGBT特有的功能區，與漏區和亞溝道區一起形成PNP雙極晶體管，起發射極的作用，向漏極注入空穴，進行導電調制，以降低器件的通態電壓。附于漏注入區上的電極稱為漏極（即集電極C）。IGBT的開關作用是通過加正向柵極電壓形成溝道，給PNP（原來為NPN）晶體管提供基極電流，使IGBT導通。反之，加反向門極電壓消除溝道，切斷基極電流，使IGBT關斷。IGBT的驅動方法和MOSFET基本相...

igbt功率模塊是以絕緣柵雙極型晶體管（igbt）構成的功率模塊。由于igbt模塊為mosfet結構，igbt的柵極通過一層氧化膜與發射極實現電隔離，具有出色的器件性能。廣泛應用于伺服電機，變頻器，變頻家電等領域。目錄1特點2應用3注意事項4發展趨勢IGBT功率模塊特點編輯igbt功率模塊是電壓型控制，輸入阻抗大，驅動功率小，控制電路簡單，開關損耗小，通斷速度快，工作頻率高，元件容量大等優點。實質是個復合功率器件，它集雙極型功率晶體管和功率mosfet的優點于一體化。又因先進的加工技術使它通態飽和電壓低，開關頻率高（可達20khz），這兩點非常顯著的特性，西門子公司又推出低飽和壓降（）...

被所述多晶硅柵6側面覆蓋的所述阱區2的表面用于形成溝道。由一導電類型重摻雜的發射區7形成在所述多晶硅柵6兩側的所述阱區2的表面。所述多晶硅柵6通過頂部對應的接觸孔連接到由正面金屬層12組成的金屬柵極，所述接觸孔穿過層間膜10。所述發射區通過頂部的對應的接觸孔連接到由正面金屬層12組成的金屬源極；令所述發射區頂部對應的接觸孔為源極接觸孔11，所述源極接觸孔11還和穿過所述發射區和所述阱區2接觸。本發明一實施例中，由圖1所示可知，在各所述單元結構中，所述源極接觸孔11和各所述屏蔽接觸孔連接成一個整體結構。所述一屏蔽多晶硅4a和所述第二屏蔽多晶硅4b也分布通過對應的接觸孔連接到所述金屬源極。...

圖1所示為一個N溝道增強型絕緣柵雙極晶體管結構，N+區稱為源區，附于其上的電極稱為源極。N+區稱為漏區。器件的控制區為柵區，附于其上的電極稱為柵極。溝道在緊靠柵區邊界形成。在漏、源之間的P型區（包括P+和P一區）（溝道在該區域形成），稱為亞溝道區（Subchannelregion）。而在漏區另一側的P+區稱為漏注入區（Draininjector），它是IGBT特有的功能區，與漏區和亞溝道區一起形成PNP雙極晶體管，起發射極的作用，向漏極注入空穴，進行導電調制，以降低器件的通態電壓。附于漏注入區上的電極稱為漏極。IGBT的開關作用是通過加正向柵極電壓形成溝道，給PNP晶體管提供基極電流，...

在所述柵極結構的每一側包括二個所述第二屏蔽電極結構，在其他實施例中，也能改變所述柵極結構和對應的所述第二屏蔽電極結構的數量和位置。所述溝槽101的步進為1微米～3微米，所述溝槽101的步進如圖3a中的d1所示。在所述漂移區1和所述集電區9之間形成有由一導電類型重摻雜區組成的電場中止層8。本發明一實施例中，所述igbt器件為n型器件，一導電類型為n型，第二導電類型為p型。在其他實施例中也能為：所述igbt器件為p型器件，一導電類型為p型，第二導電類型為n型。本發明一實施例具有如下有益技術效果：1、本發明一實施例對器件單元結構中的柵極結構的屏蔽結構做了特別的設置，在柵極結構的兩側設置有形成...

由形成于半導體襯底表面的一導電類型輕摻雜區組成。第二導電類型摻雜的阱區，形成于所述漂移區表面。在所述漂移區的底部表面形成有由第二導電類重摻雜區組成的集電區。電荷存儲層，所述電荷存儲層形成于所述漂移區的頂部區域且位于所述漂移區和所述阱區交界面的底部，所述電荷存儲層具有一導電類重摻雜；所述電荷存儲層用于阻擋第二導電類載流子從所述漂移區中進入到所述阱區中。多個溝槽，各所述溝槽穿過所述阱區和所述電荷存儲層且各所述溝槽的進入到所述漂移區中；一個所述igbt器件的單元結構中包括一個柵極結構以及形成于所述柵極結構兩側的第二屏蔽電極結構，在所述柵極結構的每一側包括至少一個所述第二屏蔽電極結構。所述柵極...

由形成于半導體襯底表面的一導電類型輕摻雜區組成。第二導電類型摻雜的阱區，形成于所述漂移區表面。在所述漂移區的底部表面形成有由第二導電類重摻雜區組成的集電區。電荷存儲層，所述電荷存儲層形成于所述漂移區的頂部區域且位于所述漂移區和所述阱區交界面的底部，所述電荷存儲層具有一導電類重摻雜；所述電荷存儲層用于阻擋第二導電類載流子從所述漂移區中進入到所述阱區中。多個溝槽，各所述溝槽穿過所述阱區和所述電荷存儲層且各所述溝槽的進入到所述漂移區中；一個所述igbt器件的單元結構中包括一個柵極結構以及形成于所述柵極結構兩側的第二屏蔽電極結構，在所述柵極結構的每一側包括至少一個所述第二屏蔽電極結構。所述柵極...

IGBT模塊是由IGBT（絕緣柵雙極型晶體管芯片）與FWD（續流二極管芯片）通過特定的電路橋接封裝而成的模塊化半導體產品；封裝后的IGBT模塊直接應用于變頻器、UPS不間斷電源等設備上；IGBT模塊具有節能、安裝維修方便、散熱穩定等特點；當前市場上銷售的多為此類模塊化產品，一般所說的IGBT也指IGBT模塊；隨著節能環保等理念的推進，此類產品在市場上將越來越多見。IGBT模塊連接圖IGBT模塊的安裝：為了使接觸熱阻變小，推薦在散熱器與IGBT模塊的安裝面之間涂敷散熱絕緣混合劑。涂敷散熱絕緣混合劑時，在散熱器或IGBT模塊的金屬基板面上涂敷。如圖1所示。隨著IGBT模塊與散熱器通過螺釘夾...

下拉電阻r3并聯在電阻r2與控制管n3之間，控制限壓功能的工作與否；請再次參閱圖1，限流電路300包括電阻r1和正向二極管n22，電阻r1與正向二極管n22相串聯，限壓電路100、控制電路200和限流電路300相并聯，限制限壓部分的電流大小，解決了分立器件限壓電路集成在驅動輸出端導通時出現的較大電流現象，不降低了工作損耗，減小了分立器件的成本、也提高了芯片使用的壽命。使用時，當lp接收到mcu的信號置高時，限壓電路開始工作，a點電壓被限壓在設定所需要的電壓u1，如希望igbt驅動輸出限制在12v，此時a電壓的設定u1＝12v+vbe，b點電壓為u2＝12v+2vbe，終c點電壓為12v...

目前，為了防止高dV/dt應用于橋式電路中的IGBT時產生瞬時集電極電流，設計人員一般會設計柵特性是需要負偏置柵驅動的IGBT。然而提供負偏置增加了電路的復雜性，也很難使用高壓集成電路（HVIC）柵驅動器，因為這些IC是專為接地操作而設計──與控制電路相同。因此，研發有高dV/dt能力的IGBT以用于“單正向”柵驅動器便為理想了。這樣的器件已經開發出來了。器件與負偏置柵驅動IGBT進行性能表現的比較測試，在高dV/dt條件下得出優越的測試結果。為了理解dV/dt感生開通現象，我們必須考慮跟IGBT結構有關的電容。圖1顯示了三個主要的IGBT寄生電容。集電極到發射極電容C，集電極到柵極電...

但在中MOSFET及IGBT主流器件市場上，90％主要依賴進口，基本被國外歐美、日本企業壟斷。國外企業如英飛凌、ABB、三菱等廠商研發的IGBT器件產品規格涵蓋電壓600V-6500V，電流2A-3600A，已形成完善的IGBT產品系列。英飛凌、三菱、ABB在1700V以上電壓等級的工業IGBT領域占優勢；在3300V以上電壓等級的高壓IGBT技術領域幾乎處于壟斷地位。在大功率溝槽技術方面，英飛凌與三菱公司處于國際水平。西門康、仙童等在1700V及以下電壓等級的消費IGBT領域處于優勢地位。盡管我國擁有大的功率半導體市場，但是目前國內功率半導體產品的研發與國際大公司相比還存在很大差距，...

可控硅可控硅簡稱SCR，是一種大功率電器元件，也稱晶閘管。它具有體積小、效率高、壽命長等優點。在自動控制系統中，可作為大功率驅動器件，實現用小功率控件控制大功率設備。它在交直流電機調速系統、調功系統及隨動系統中得到了廣泛的應用。可控硅分單向可控硅和雙向可控硅兩種。雙向可控硅也叫三端雙向可控硅，簡稱TRIAC。雙向可控硅在結構上相當于兩個單向可控硅反向連接，這種可控硅具有雙向導通功能。其通斷狀態由控制極G決定。在控制極G上加正脈沖（或負脈沖）可使其正向（或反向）導通。這種裝置的優點是控制電路簡單，沒有反向耐壓問題，因此特別適合做交流無觸點開關使用。IGBTIGBT絕緣柵雙極型晶體管，是由...

附圖說明圖1為本發明結構示意圖；圖2為本發明限壓電路結構示意圖。圖中：100限壓電路、110一齊納二極管、120第二齊納二極管、200控制電路、300限流電路。具體實施方式下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。本發明提供一種igbt驅動電路，將分立器件實現的限壓電路集成在芯片中，節省了面積，降低了成本，將限壓電路與igbt的驅動電路結合在一個功能塊里進一步節省了面積和成本...

措施：在三相變壓器次級星形中點與地之間并聯適當電容，就可以減小這種過電壓。與整流器并聯的其它負載切斷時，因電源回路電感產生感應電勢的過電壓。變壓器空載且電源電壓過零時，初級拉閘，因變壓器激磁電流的突變，在次級感生出很高的瞬時電壓，這種電壓尖峰值可達工作電壓的6倍以上。交流電網遭雷擊或電網侵入干擾過電壓，即偶發性浪涌電壓，都必須加阻容吸收路進行保護。3．直流側過電壓及保護當負載斷開時或快熔斷時，儲存在變壓器中的磁場能量會產生過電壓，顯然在交流側阻容吸收保護電路可以抑制這種過電壓，但由于變壓器過載時儲存的能量比空載時要大，還不能完全消除。措施：能常采用壓敏吸收進行保護。4．過電流保護一般加...

同一代技術中通態損耗與開關損耗兩者相互矛盾,互為消長。IGBT模塊按封裝工藝來看主要可分為焊接式與壓接式兩類。高壓IGBT模塊一般以標準焊接式封裝為主，中低壓IGBT模塊則出現了很多新技術，如燒結取代焊接，壓力接觸取代引線鍵合的壓接式封裝工藝。隨著IGBT芯片技術的不斷發展，芯片的高工作結溫與功率密度不斷提高，IGBT模塊技術也要與之相適應。未來IGBT模塊技術將圍繞芯片背面焊接固定與正面電極互連兩方面改進。模塊技術發展趨勢：無焊接、無引線鍵合及無襯板/基板封裝技術；內部集成溫度傳感器、電流傳感器及驅動電路等功能元件，不斷提高IGBT模塊的功率密度、集成度及智能度。IGBT的主要應用領...

3、本發明還設置了電荷存儲層，電荷存儲層結合第二屏蔽電極結構能更好的防止集電區注入的少子進入到溝道區域中，從而能降低降低器件的飽和壓降。附圖說明下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明：圖1是本發明實施例一實施例igbt器件的結構示意圖；圖2是本發明實施例第二實施例igbt器件的結構示意圖；圖3a-圖3g是本發明一實施例方法各步驟中器件的結構示意圖。具體實施方式本發明實施例一實施例igbt器件：如圖1所示，是本發明實施例一實施例igbt器件的結構示意圖，本發明一實施例igbt器件包括：漂移區1，由形成于半導體襯底(未顯示)表面的一導電類型輕摻雜區組成。本發明實施例一實施例中...

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種igbt驅動電路，包括限壓電路、控制電路和限流電路。，所述限壓電路、所述控制電路和所述限流電路相并聯。，所述限壓電路包括：一齊納二極管；第二齊納二極管，所述第二齊納二極管與所述一齊納二極管串聯。，所述控制電路包括限壓電路控制輸入lp、電阻r2、下拉電阻r3和控制管n3，所述限壓電路控制輸入lp與所述電阻r2串聯，所述電阻r2與所述控制管n3相串聯，所述下拉電阻r3并聯在所述電阻r2與所述控制管n3之間。，所述限流電路包括電阻r1和正向二極管n22，所述電阻r1與所述正向二極管n22相串聯。與現有技術相比，本發明的有益效果是：本發明將分立器件實...

如果該力矩不足，可能使接觸熱阻變大，或在工作中產生松動。反之，如果力矩過大，可能引起外殼破壞。將IGBT模塊安裝在由擠壓模制作的散熱器上時，IGBT模塊的安裝與散熱器擠壓方向平行，這是為了減小散熱器變形的影響。圖2螺釘的夾緊方法把模塊焊接到PCB時，應注意焊接時間要短。注意波形焊接機的溶劑干燥劑的用量，不要使用過量的溶劑。模塊不能沖洗。用網版印刷技術在散熱器表面印刷50μm的散熱復合用螺釘把模塊和PCB安裝在散熱器上。在未上螺釘之前，輕微移動模塊可以更好地分布散熱膏。安裝螺釘時先用合適的力度固定兩個螺釘，然后用推薦的力度旋緊螺釘。在IGBT模塊的端子上，將柵極驅動電路和控制電路錫焊時，...

消除了導通電阻中jfet的影響。同時縮小了原胞尺寸即步進(pitch)，提高原胞密度，每個芯片的溝道總寬度增加，減小了溝道電阻。另一方面，由于多晶硅柵面積增大，減少了分布電阻，有利于提高開關速度。igbt的飽和壓降(vcesat)和關斷損耗以及抗沖擊能力是衡量igbt器件的幾個重要指標。飽和壓降是衡量igbt產品導通損耗的重要參數，降低igbt飽和壓降可以有效降低igbt功率損耗，減小產品發熱，提高功率轉換效率。耐壓特性也是是產品的重要參數之一。降低關斷損耗可以限度的降低igbt在高頻下的功率損耗。igbt產品抗沖擊能力的主要體現就是產品抗短路能力，是體現產品可靠性的重要參數指標。隨著...