近幾十年來，混床離子交換技術已被用作制備超純水的標準工藝。由于需要定期再生，再生過程中使用了大量的化學品(酸和堿)和純水，造成了一定的環境問題，因此有必要開發無酸超純水系統。超純水設備在水處理設備中占有重要地位。由于傳統離子交換已不能滿足現代工業和環保的需要，結合膜、樹脂和電化學原理的EDI技術已成為水處理技術的一場變革。其離子交換樹脂的再生是用電代替酸堿，可以滿足當今環保要求。自1986年EDI膜反應器技術產業化以來，EDI超純水系統已應用在制藥、半導體、電力、表面清潔、廢水處理、飲料、微生物等領域。EDI超純水設備原理特點介紹。佛山實驗室EDI超純水設備使用說明

EDI超純水設備應用領域：超純水設備主要是應用在電廠化學水處理中；電子，半導體，精密機械行業所需的超純水；用于食品，飲料，飲用水制備；精細化工，科研用水；其他行業所需的高純水制備；制藥工業用水；海水，苦咸水的淡化。小型純水站以及飲用純凈水。EDI超純水設備應用在較多的領域中且具有非常多的特點，目前，大多數領域中對水質情況的要求卻來越嚴格，一般的凈化設備已不能滿足生產要求。而EDI超純水設備采用較為先進的處理技術，保證處理之后的出水穩定。佛山實驗室EDI超純水設備使用說明EDI超純水電阻率正常范圍。

    EDI超純水設備是將電滲析技術和離子交換技術有機結合形成的一種新型除鹽技術，其比較大的特點是利用電而不是酸堿對樹脂進行再生，具有出水水質穩定、運行費用低、操作管理方便、占地面積小等優點，與反滲透聯用可提供比較好的品質產品水。DI超純水設備技術優勢：CPUW關鍵超純水膜元件；CIP在線清洗消毒系統；GMP標準認證；POD水質在線檢測系統；PPH、PVDF潔凈管道設計工程師。DI超純水設備應用范圍：電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管徑清洗用純水。液晶顯示器的生產、平面需用純水清洗及純水配液。晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制。集成電路生產中高純水清洗硅片、比較好的品質顯像管、熒光粉生產。半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。LCD、LED液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。純材料和超純化學試劑、超純化工材料、實驗室和中試車間。汽車、家電表面拋光處理、光電產品、其他高科技精微產品。

    EDI超純水設備部分設備功用，首先是原水箱功用：貯存系統原水，對進水起調節作用，也對進水中的雜質起一定的沉淀作用。砂濾器功用：初步去除水中泥沙、雜質、懸浮物以及其它微粒等降低水的濁度。碳濾器功用：利用碳的吸附原理吸附水中異色、異味、余氯等。軟水器功用：利用陽樹脂置換水中的鈣鎂離子，降低水的硬度。保安過濾器功用：防止大顆粒雜質進入反滲透膜，造成對膜的損壞，保護反滲透膜。反滲透主機功用：主要是通過反滲透過濾，達到生產純水之目的。純水箱功用：儲存反滲透產水，為用水點提供水源。純水增壓泵功用：為混床系統提供動力源。混床系統功用：利用陽陰樹脂吸附置換水中陽陰離子，使出水達到超純水標準。超純水箱功用：儲存混床產水，為用水點提供水源。 EDI超純水一體化設備是用來做什么的？

    EDI超純水設備運行時要調節產水、濃水進水、濃水排水之流量限位保護開關至設定值并固定鎖緊，在控制面板上將增壓泵開關調到手動檔，啟動增壓泵向膜塊注水至產水流量計、濃水給水、濃水排水流量計有水通過，調節產水閥門、濃水進水閥門、濃水排水閥門、使其達到設定值。濃水流量通常會設定在產水流量的11%（從而使水的回收達到90%）。隨后將EDI模塊開關旋至自動檔，大約5-10秒后自動通電運行。在不用的時候，我們首先要關閉EDI膜塊的進水然后將EDI膜塊中的死水排掉，關閉進出口閥門，以避免離子交換膜和離子交換樹脂中的水被蒸發。如果在關閉后又要重啟的話，可以將產水出水接到排水溝，然后開啟EDI膜塊的進水，在直流電源已開啟的情況下運行系統，沖洗并排水，另外如有要求，對EDI膜塊進行消毒。 EDI超純水系統說明書。中山制藥EDI超純水裝置

電子工業EDI超純水系統。佛山實驗室EDI超純水設備使用說明

EDI超純水設備投運前的準備工作：首先是要確認進入EDI的水質滿足、符合進水條件；檢查EDI膜塊兩端板的緊固螺栓是否全部鎖緊；檢查控制箱電源是否通電；檢查膜塊的直流電源接線是否正確5、檢查確認輸送泵的電機運轉方向是否正確；檢查各個儀表工作電壓是否符合設備要求；檢查各個儀表工作范圍設定是否符合現場設定要求；調整、設定各流量限位開關比較低值（產水、濃水進水、濃水排水）；設定淡水進水壓力及流量；設定濃水進水壓力及流量；設定濃水排水壓力及流量；設定產水壓力及流量；檢查各閥門是否處于開啟狀態（初期先調節開啟度全程的1/2）。佛山實驗室EDI超純水設備使用說明

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