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山東銷售美國IONPURE EDI模塊貨源充足

來源: 發(fā)布時間:2023-06-06

美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況:

     1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流,小流量運行,積聚的熱量得不到散發(fā),造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大,水質和水量都不同程度的下降。

     2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng),EDI的膜片和通道結鈣鎂垢,進出水壓差增大,造成產水水質下降,電壓上升,電流無法調節(jié),**終無法使用。

      3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機沒有保護,EDI的膜片和通道滋生有機物,進出水壓差增大,造成產水水質下降,電壓上升,電流無法調節(jié),**終無法使用。

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西門子EDI模塊作為超純水設備的主要部件,一旦損壞將直接造成拋光混床樹脂的壽命縮短,增加運行成本,嚴重影響生產。

導致西門子EDI模塊故障的主要原因:

  1、西門子EDI模塊長期在大電流,低于額定流量情況下運行,極板側積聚的熱量得不到有效散發(fā),造成EDI接近兩極的膜片和隔網較早發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大,水質和水量下降,嚴重會碳化漏水。

  2、西門子EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng),EDI的膜片和通道結垢,進出水壓差增大,造成產水水質下降,電流無法調節(jié),電壓上升。

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(5) 西門子EDI模塊,TOC(總有機碳)的影響。

     進水中如果有機物含量過高,會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染,導致系統運行電壓上升,產水水質下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體,堵塞通道。


(6) 西門子EDI模塊,進水中CO2的影響。

     進水中CO2生成的HCO3-是弱電解質,容易穿透離子交換樹脂層而造成產水水質下降。


(7) 西門子EDI模塊,總陰離子含量(TEA)的影響。

     高的TEA將會降西門子EDI模塊產水電阻率,或需要提高西門子EDI模塊運行電流,而過高的運行電流會導致系統電流增大,極水余氯濃度增大,對極膜壽命不利。

另外,進水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對西門子EDI模塊系統運行有影響。

2.酸洗

   1)配制2.0%鹽酸溶液:將1200LRO水沖入清洗水箱中,緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸,邊加邊攪拌均勻(可啟動清洗泵循環(huán)攪拌)。

   2)檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后,啟動清洗泵運行30分鐘,運行流量和壓力為正常運行狀態(tài),最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。

   3)沖洗排掉清洗水箱內清洗液,并用RO水沖洗EDI系統出水至中性。

3.消毒

   清洗水箱中加入1200LRO產水,緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液,配制0.2%的H2O2溶液,用清洗泵自循環(huán)10分鐘,使溶液混合均勻。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎選購。

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美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結構特點:

  1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料;

  2、膜片采用進口均相膜和國產異相離子交換膜;

  3、采用進口EDI**均粒樹脂和國產EDI**均粒樹脂;

  4、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術;

  5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成;

  6、固定螺絲采用國標標準件;

  7、出廠比較高試壓7bar不漏水;

  8、電阻低、功耗小;

  9、美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊外觀裝飾板造型美觀結實;

  10、比較大膜堆處理水量3T/H,** 小模堆處理水量75L/H;

  11、純水、濃水、極水通道設計合理,不易堵塞,水流分布均勻、無死角。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保量大從優(yōu)。江蘇全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊供貨商

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式


  ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)


  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)


步驟


  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。


  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)


  ?步驟 2.


  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)



  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)



  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)


  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求)。總體來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。




  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)


  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)




  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產水水質的水引入濃水管線環(huán)中直到產水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))


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