也不限定這些芯片采用同一種剖面設計，更不限定使用同一種基板結構。在執行晶圓級芯片封裝時，可以根據同一片晶圓上所欲切割的芯片的設計，來對該片晶圓執行特定的制程。請參考圖15所示，其為根據本申請一實施例的晶圓制作方法1500的前列程示意圖。圖15所示的晶圓制作方法1500可以是晶圓級芯片封裝方法的一部分。該晶圓級芯片封裝方法可以是先在一整片晶圓上進行制作、封裝與測試，然后經切割后，再將芯片放置到個別印刷電路板的過程。本申請所欲保護的部分之一是在封裝測試之前，針對于基板結構的制作方法。當然本申請也想要保護一整套的晶圓級芯片封裝方法。圖15的晶圓制作方法1500所作出的芯片，可以包含圖3~14所述的各種基板結構與剖面。請再參考圖16a~16j，其為根據本申請實施例的晶圓制作過程的各階段的剖面示意圖。圖16a~16j的各圖是針對晶圓當中的某一個芯片來繪制。在說明圖15的各步驟時，可以參考圖16a~16j的各圖。本領域普通技術人員可以理解到雖然圖16a~16j是針對一個芯片的剖面進行繪制，但可以根據晶圓的設計，普遍地適用于整個晶圓。另外，在圖16a~16j當中，主要是針對基板結構1000來繪制。但本領域普通技術人員可以理解到。半導體晶圓價格走勢..丹東品質半導體晶圓

    其為根據本申請一實施例的半導體基板的結構的剖面700的一示意圖。該結構的剖面700可以是圖5a所示結構500的bb線剖面。該樹酯層540與該金屬層510外緣之間，是該金屬層510用于包圍該樹酯層540的四個金屬邊框。該四個金屬邊框的厚度可以相同，也可以不同。舉例來說，相對于上下外緣的厚度711與713可以相同，相對于左右外緣的厚度712與714可以相同。但厚度711與712可以不同。本領域普通技術人員可以透過圖7理解到，本申請并不限定該樹酯層540外緣的形狀，其可以是正方形、矩形、橢圓形、圓形。當該金屬層510與該樹酯層540都是矩形時，本申請也不限定該該金屬層510用于包圍該樹酯層540的四個邊框的厚度。在一實施例當中，這四個邊框的厚度711~714可以相同，以簡化設計與制作的問題。在另一實施例當中，這四個邊框當中兩組邊框的厚度可以相同，以簡化設計與制作的問題。在更一實施例當中，這四個邊框的厚度711~714可以完全不同，以便適應芯片設計的需要。由于芯片的不同區域可以承載不同的半導體元器件，而不同的半導體元器件所需要的基板結構電阻值可以是不同的。因此，可以如圖7所示的實施例，在部分區域讓金屬層510的厚度較厚。西安半導體晶圓廠家現貨國內半導體晶圓 代工公司。

    進而可取出產品。另外，在一個實施例中，所述動力機構103包括固設在所述動力腔26底壁上的第三電機25，所述第三電機25的頂面動力連接設有電機軸24，所述電機軸24的頂面固設有***轉盤23，所述升降腔18的上下壁之間轉動設有***螺桿17，所述***螺桿17貫穿所述升降塊15，并與所述升降塊15螺紋連接，所述***螺桿17向下延伸部分伸入所述動力腔26內，且其底面固設有第二輪盤21，所述第二輪盤21的底面與所述***轉盤23的頂面鉸接設有第三連桿22，所述第二輪盤21直徑大于所述***轉盤23的直徑，通過所述第三電機25的運轉，可使所述電機軸24帶動所述***轉盤23轉動，進而可使所述第二輪盤21帶動所述***螺桿17間歇性往返轉動，則可使所述升降塊15間歇性升降，繼而可使所述切割片50能夠連續切割所述硅錠48。另外，在一個實施例中，所述傳動機構104包括滑動設在所述移動腔13前后壁上的移動塊53，所述海綿52向所述移動腔13延伸部分伸入所述移動腔13內，并與所述移動塊53固定連接，所述移動腔13的下側連通設有冷卻水腔14，所述冷卻水腔14內存有冷卻水，所述海綿52向下延伸部分伸入所述冷卻水腔14內，所述移動塊53的頂面固設有第四連桿54，所述傳動腔55的底壁上轉動設有第二螺桿57。

    用振幅隨著時間變化的電源的功率水平p來代替如圖7a及圖7d中步驟7040所示的恒定的功率水平p1。在一個實施例中，如圖8a所示，在時間段τ1內，電源的功率振幅p增大。在另一個實施例中，如圖8b所示，在時間段τ1內，電源的功率振幅p減小。在又一個實施例中，如圖8c所示，在時間段τ1內，電源的功率振幅p先減小后增大。在如圖8d所示的實施例中，在時間段τ1內，電源的功率振幅p先增大后減小。圖9a至圖9d揭示了根據本發明的又一個實施例的聲波晶圓清洗工藝。在該聲波晶圓清洗工藝中，電源的頻率隨著時間變化，而這個工藝中的其他方面與圖7a至圖7d中所示的保持一樣，在該實施例中，用隨著時間變化的電源的頻率來代替如圖7a及圖7d中步驟7040所示的恒定的頻率f1。如圖9a所示，在一個實施例中，在時間段τ1內，電源的頻率先設置為f1后設置為f3，f1高于f3。如圖9b所示，在一個實施例中，在時間段τ1內，電源的頻率先設置為f3后增大至f1。如圖9c所示，在一個實施例中，在時間段τ1內，電源的頻率從f3變化至f1再變回f3。如圖9d所示，在一個實施例中，在時間段τ1內，電源的頻率從f1變為f3再變回f1。與圖9c所示的清洗工藝相似，在一個實施例中，在時間段τ1內，電源的頻率先設置為f1。咸陽12英寸半導體晶圓代工。

    在步驟10010中，將超聲波或兆聲波裝置置于晶圓的上表面附近。在步驟10020中，將清洗液，可以是化學液或摻了氣體的水噴射到晶圓表面以填滿晶圓和聲波裝置之間的間隙。在步驟10030中，卡盤攜帶晶圓開始旋轉以進行清洗工藝。在步驟10040中，頻率為f1以及功率水平為p1的電源被應用于聲波裝置。在步驟10050中，當頻率保持在f1時，電源的功率水平在氣泡內氣體和/或蒸汽的溫度達到內爆溫度ti之前，或在時間τ1達到由公式(11)計算的τi之前，降低到p2。在步驟10060中，氣泡內氣體和/或蒸汽溫度降至接近室溫t0或持續時間達到τ2后，電源的功率水平恢復到p1。在步驟10070中，檢查晶圓的清潔度，如果晶圓尚未清潔到所需程度，則重復步驟10010-10060。或者，可能不需要在每個周期內檢查清潔度，取而代之的是，使用的周期數可能是預先用樣品晶圓通過經驗確定。圖11a至圖11b揭示了根據本發明的另一個實施例的聲波晶圓清洗工藝。本實施例中的聲波晶圓清洗工藝與圖10a-10c所示的實施例中的相類似，差異*存在于步驟10050中。圖11a-11b所示的晶圓清洗工藝在時間段τ2內使頻率降至f2，以此來代替保持頻率在f1。功率水平p2應該***地低于p1，**好是小5或10倍。安徽半導體晶圓制作流程。石家莊半導體晶圓制造工序

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    本實用新型涉及一種半導體晶圓濕法清洗治具。背景技術：濕法清洗是半導體生產中被***接受和使用，作為半導體制造過程中，由于其成本低，可靠性高等優點被***使用。通常的濕法清洗過程是將需要清洗的晶圓放置到特定的花籃中，然后將承載晶圓的花籃放置于相應的清洗燒杯中，清洗燒杯中盛放可以清洗晶圓的溶液，根據不同的清洗要求，清洗燒杯會放置在帶有加熱或者超聲功能的清洗槽內。傳統的晶圓清洗花籃通常將晶圓豎直放置，通過卡槽固定，此種方式存在如下缺陷：由于標準晶圓清洗花籃的卡槽通常設計的較窄，人為操作取、放片時手易抖動、位置把握不準等因素，晶圓容易和卡槽周邊發生碰撞、擠壓，造成晶圓破碎。如果在設計時增大花籃卡槽寬度的話，運輸和清洗操作過程中晶圓在卡槽內容易大幅度晃動，產生較大的沖擊力，同樣會造成晶圓破碎。為了解決這一問題，出現了一些水平放置清洗花籃，晶圓在花籃中水平放置，可以避免豎直放置型花籃容易導致晶圓破損的問題?，F有水平放置清洗花籃通常被設計為特定尺寸的圓形花籃，但是隨著半導體技術的發展，在產品流線中一般會有多種尺寸、多種不同形狀的晶圓同時流片，傳統方法只能定制不同尺寸的花籃進行使用，這增加了設備的持有成本。丹東品質半導體晶圓

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