真空鍍膜需要注意的問題：1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。2、化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而比較容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 3、晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。真空鍍膜的操作規程：工作完畢應斷電、斷水。湖北手機真空鍍膜漆

真空鍍膜操作規程：1．在機床運轉正常情況下，開動機床時，須先開水管，工作中應隨時注意水壓。 2．在離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。 3．在用電子頭鍍膜時，應在鐘罩周圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。 4．鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。 5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。 6．酸洗夾具應在通風裝置內進行，并要戴橡皮手套。 7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。 8．工作完畢應斷電、斷水。福建電源真空鍍膜加工真空濺鍍通常指的是磁控濺鍍，屬于高速低溫濺鍍法。

真空電鍍設備的監控方法：1、目視監控：使用眼睛監控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現象會有顏色變化，我們就是根據顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有誤差，所以不是比較準確，需要依靠經驗。2、極值監控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學厚度ND是監控波長的四分之一的整倍數。但是極值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在極值附近變化比較慢，亦就是膜厚ND增加許多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。3.定值監控法：此方法利用停鍍點不在監控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。4.水晶振蕩監控：利用石英晶體振動頻率與其質量成反比的原理工作的。但是石英監控有一個不好之處就是當膜厚增加到厚度后，振動頻率不全然由于石英本身的特性使厚度與頻率之間有線性關系，此時須使用新的石英振蕩片。

離子鍍：蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。一種離子鍍系統如圖4[離子鍍系統示意圖],將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度較大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有比較好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。真空鍍膜機、真空鍍膜設備爐門采用懸垂吊掛式平移結構，便于爐外料車與爐內輥軸的對接傳遞，減少占地空間。

真空鍍膜：一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術較先用于生產光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜機的優點:可采用屏蔽式對各式產品涂敷作業！福建電源真空鍍膜加工

真空鍍膜機真空壓鑄鈦鑄件的方法與標準的壓鑄工藝一樣。湖北手機真空鍍膜漆

自從進入21世紀，伴隨著現代工業技術的發展，在大多數零件上，不論是外觀，還是性能，越來越精細的零件都有了更高的要求。面對這些嚴格要求，傳統的零件加工辦法和表面處理技術已經達不到標準。經過長時間的研發，鍍鈦解決了此類問題。鍍鈦不只能夠滿足人們對于零件的耐磨性、抗腐蝕性、少耗損等等性能的要求，更解決了零件材料經不住處于高溫的環境中的問題，成功保持了零件基本不會變形，硬度不會降低的狀態。鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現在已經在工業領域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。湖北手機真空鍍膜漆

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