如果普通的鏡片可以看得比較清楚，就不需要加膜，如果要加，樹脂鏡片可以加抗反射膜，也可以加硬膜，玻璃鏡片一般只加抗反射膜。當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5% 會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至 1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至 0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達 95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。 真空鍍膜機鍍膜常用在相機、望遠鏡，顯微鏡的目鏡、物鏡、棱鏡的表面，用以增加像的照度。在建筑和汽車玻璃上使用真空電鍍設備技術，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。山東機械真空鍍膜加工

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法較早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。玻璃真空鍍膜涂料真空鍍膜的操作規程：酸洗夾具應在通風裝置內進行，并要戴橡皮手套。

現在真空鍍膜已被普遍應用于各類非金屬制品的表面金屬化上：1、磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域；2、磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層；3、磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域；4、光學鍍膜設備：應用于光學薄膜領域；5、觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域；6、磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層；7、PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造；8、蒸發式真空鍍膜設備：應用于在裝飾飾品上鍍膜；9、低輻射玻璃鍍膜生產線：應用于建筑玻璃方面，真空鍍膜價格；10、抗反射導電膜連續磁控濺射生產線：應用于電子產品領域。

真空鍍膜加工設備維修保養技巧：1、真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，需要清潔工作室一次。方法是：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內壁，目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室，以及用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。2、擴散泵連續使用6個月以上，抽速明顯變慢，或操作失當，充入大氣，拆去聯結水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹清洗干凈，待水份揮發干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。在重新開機前，要注意檢漏工作。方法是：啟動維持泵，關好大門，數分鐘后，觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10帕，否則要進行檢漏。檢查聯接處是否裝密封膠圈，或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱，否則擴散泵油會燒環，無法進入工作狀態。3、當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續工作一個月（雨季減半），需更換新油。方法是：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。多弧離子真空鍍膜機鍍膜還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。

真空鍍膜加工操作規程：1．在真空鍍膜加工中設備運轉正常情況下，開動真空鍍膜加工機時，須先開水管，工作中應注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。3．在用電子頭鍍膜時，應在鐘罩周圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。4．鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6．酸洗夾具應在通風裝置內進行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。8．工作完畢應斷電、斷水。真空鍍膜機光學鍍膜主要有兩種：一種是抗反射膜、另一種是加硬膜。玻璃真空鍍膜涂料

真空鍍膜機電阻式蒸發鍍分為預熱段、預溶段、線性蒸發段三個步驟。山東機械真空鍍膜加工

離子鍍：蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。一種離子鍍系統如圖4[離子鍍系統示意圖],將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度較大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有比較好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。山東機械真空鍍膜加工

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