真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優異的電磁屏蔽和導電效果。通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發鍍膜。這種方法較早由M.法拉第于1857年提出,現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。真空鍍膜的操作規程:鍍制多層介質膜的鍍膜間,應安裝通風吸塵裝置,及時排除有害粉塵。重慶手機真空鍍膜技術
離子鍍:蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。一種離子鍍系統如圖4[離子鍍系統示意圖],將基片臺作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射清洗作用,使膜層附著強度較大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點,并有比較好的繞射性,可為形狀復雜的工件鍍膜。重慶手機真空鍍膜技術真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業應用,工業化大規模生產開始于20世紀80年代,在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得普遍的應用。真空鍍膜是指在真空環境下,將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料),屬于物理的氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜,故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中,以塑料較為常見,其次,為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料,塑料具有來源充足、性能易于調控、加工方便等優勢,因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料,大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷,如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜,即可賦予塑料程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可較大增加材料表面耐磨性能,較大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。
真空鍍膜機多弧離子鍍膜被加工材料的品種、軟硬、脆韌,加工條件是干磨、濕磨,壓力大小,真空鍍膜設備多弧離子鍍膜要求加工的表面狀況,真空鍍膜機多弧離子鍍膜是要求加工鋒利、或突出耐用等等的不同,多弧離子鍍膜都會對我們選擇磨料品種、品級、粒度,選擇鍍液的種類、配方、工藝,選擇多弧離子鍍膜參數等等產生不同的影響。尤其當研制新產品時,真空鍍膜機多弧離子鍍膜對每次試驗的數據如磨削條件、結果等,要有周全、真實的記錄,這些是我們再次對產品進行試驗改進的重要依據。真空鍍膜機的優點:對印刷、復合等后加工具有良好的適應性。
真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜,從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優于固體材料本身的優越性能,達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得明顯技術經濟效益的作用。因此真空鍍膜技術被譽為較具發展前途的重要技術之一,并已在高技術產業化的發展中展現出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經濟各個領域得到應用,如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環保等領域。真空鍍膜機模具滲碳是為了提高模具的整體強韌性,即模具的工作表面具有高的強度和耐磨性。四川手機真空鍍膜行業
真空鍍膜機新型表面功能覆層技術,其特點是保持基體材料固有的特征,又賦予表面化所要求的各種性能。重慶手機真空鍍膜技術
為什么真空鍍膜可以做成半透效果而且不導電?并非完全不導電,利用了分子在薄膜狀態下的不連續性,金屬或金屬化合物都具有導電性,只是導電率不同。但是,當金屬或金屬化合物呈一種薄膜的狀態時,其相應的物理特性會有所不同。常規的鍍膜材料中,如:銀是銀白效果和導電性能較好的金屬,但它厚度在5納米以下時,它是不導電的;鋁的銀白效果和導電性比銀稍微差一些,但它厚度在0.9納米時,就已經具備導電性。為什么會這樣呢?那是因為銀分子的連續性沒有鋁的好,所以在相對膜厚下,它的導電性反而較差。我們真空鍍金屬不導電膜其實就是利用了某些金屬的分子連續性差的原理,把它厚度控制在某個范圍,使其具備銀白色外觀并且電阻超大。由此可見,金屬不導電膜的效果跟它的膜厚是直接相關的。只有在相對應的膜厚下,才能得到相應穩定的銀白色不導電膜。重慶手機真空鍍膜技術
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