主反應)4OH-－4e→2H2O+O2(副反應)不是所有的金屬離子都能從水溶液中沉積出來，如果陰極上氫離子還原為氫的副反應占主要地位，則金屬離子難以在陰極上析出.根據實驗，金屬離子自水溶液中電沉積的可能性，可從元素周期表中得到一定的規律。陽極分為可溶性陽極和不溶性陽極，大多數陽極為與鍍層相對應的可溶性陽極，如：鍍鋅為鋅陽極，鍍銀為銀陽極，鍍錫-鉛合金使用錫-鉛合金陽極，但是少數電鍍由于陽極溶解困難，使用不溶性陽極，如酸性鍍金使用的是多為鉑或鈦陽極，鍍液主鹽離子靠添加配制好的標準含金溶液來補充，鍍鉻陽極使用純鉛，鉛-錫合金，鉛-銻合金等不溶性陽極。[1]電鍍工藝電鍍分類編輯按照鍍層組成分類：（1）鍍鉻。鉻是一種微帶天藍色的銀白色金屬。電極電位雖位很負，但它有很強的鈍化性能，大氣中很快鈍化，顯示出具有貴金屬的性質，所以鐵零件鍍鉻層是陰極鍍層。鉻層在大氣中很穩定，能長期保持其光澤，在堿、硝酸、硫化物、碳酸鹽以及有機酸等腐蝕介質中非常穩定，但可溶于鹽酸等氫鹵酸和熱的濃**中。鉻層硬度高，耐磨性好，反光能力強，有較好的耐熱性。在500°C以下光澤和硬度均無明顯變化；溫度大于500°C開始氧化變色；大于700°C才開始變軟。浙江共感電鍍有限公司 電鍍產品獲得眾多用戶的認可。重慶電鍍工藝技術要求

    接觸柱105上固定連接有限位銷103，圓片102和限位銷103分別位于橫片2的上下兩側，橫片2下側的前后兩端均固定連接有彈簧套柱204，兩個彈簧套柱204分別在豎向滑動連接在零件托板3的前后兩端，兩個彈簧套柱204的下端均固定連接有圓形擋片203，兩個彈簧套柱204的下部均套接有壓縮彈簧，兩個縮彈簧均位于零件托板3的下側，兩個縮彈簧分別位于兩個圓形擋片203的上側。兩個壓縮彈簧給予零件托板3向上的彈力，進而使得零件托板3向上移動，進而使得接觸片104與零件接觸，使得陰極柱101與零件之間接通。橫片2可以以接觸柱105的軸線為軸轉動晃動，進而帶動零件托板3和零件以接觸柱105的軸線為軸轉動晃動，進一步使得零件在電鍍液中移動進行電鍍，提高了電鍍效果。具體實施方式三：下面結合圖1-8說明本實施方式，所述電鍍系統還包括左絕緣塊1、絕緣桿106、圓轉盤107和電機108，陰極柱101固定連接在左絕緣塊1上，左絕緣塊1上固定連接有電機108，電機108的輸出軸上固定連接有圓轉盤107，絕緣桿106的一端鉸接連接在圓轉盤107的偏心位置，絕緣桿106的另一端鉸接連接在橫片2上。電機108帶動圓轉盤107轉動，圓轉盤107轉動時通過絕緣桿106帶動橫片2以接觸柱105的軸線為軸轉動晃動。遼寧金屬電鍍電鍍產品，就選浙江共感電鍍有限公司，有想法的可以來電咨詢！

    ED銅皮其粗面上之銅*卻為刻意超過極限電流而產生者。●各種攬拌(吹氣、過續循環、陰極擺動等)之目的均在逼薄陰極膜(使δ變小)減少濃差極化，并增加其可用之電流極限。且主槽液濃度(Cb)與擴散系數(D)的增大也有助于極限電流的提升，而增大電鍍之反應范圍。電鍍銅陰極膜與電雙層陰極表面溶液濃度漸稀的異常液膜稱為陰極膜（CathodePilm）或擴散層（DiffusionLayer），系指原始銅濃度Cu++重量比下降l%起(99%)到陰極的0%為止的薄液層而言。原本水分子與銅離子所組成的陰極膜，其各處膜厚并不均勻，加入載運劑后此薄膜即將變為厚度增加且均勻性更好的液膜，使得鍍銅層厚度也漸趨均勻。本劑可采CVS或HPLC進行分析。電雙層（DoubleLayer）是指電鍍槽液中在**接近陰極表面處，因槽液中的帶電體受到陰極表面強力負電的感應，而出現一層帶正電的微觀離子層，其與帶負電之極板表面所形成的薄夾層，特稱為”電雙層”。此層厚度約為10A。是金屬陽離子在陰極上沉積鍍出金屬原子的**后一道關卡。此時帶電之金屬離子團，會將游動中附掛各種”配位體”（Ligand,如水分子及CN-與NH3?；蛴袡C物等）丟掉,然后吸取極面的電子而成為原子再按能量原子排列后，即可得到所需之金屬鍍層。

    然而此種做法在下游印刷錫膏與后續熔焊(Reflow)球腳時，眾多墊內微盲孔中免不了會吸引若干錫膏的不當流入。此而負面效應；一則會因錫量流失而造成焊點(SolderJoint)強度的不足，二則可能會引發盲孔內錫膏助焊劑的氣化而吹漲出討厭的空洞(Voids),兩者均使得焊點可靠度為之隱憂不已。而且設計者為了追求高頻傳輸的品質起見，01年以前“1+4+1”增層一次的做法，又已逐漸改變為現行“2+2+2”增層二次更新的面貌。此種“增二式”的**新規矩，使得內層之傳統雙面板(core),只扮演了Vcc/Gnd等人銅面的參考角色而已；所有傳輸資料的訊號線(SignalLine),幾乎都已全數布局在后續無玻纖(DK較低，訊號品質較好)的各次增層中。如此一來外層中某些必須接地或按電源的二階盲孔，甚至還會坐落在已填塞埋通孔之頂環或底環上。此等高難度的制程場已在BGA球墊之中多量出現。不幸是此種二階盲孔在凹陷與孔徑變大的情形下，其鍍銅之空虛不足自必更甚于一階者，使得原已棘手的小型焊點問題，變得更為嚴重凄慘。于是手機板的客戶們不得不一再要求電鍍銅能夠對盲孔的盡量填平，以維持整體功能于不墜。截至目前為止?，F役酸性鍍銅的本事只能說填多少算多少。電鍍產品，就選浙江共感電鍍有限公司，用戶的信賴之選，有想法的不要錯過哦！

    極化數值的增加量取決于各種不同的電鍍溶液），鍍層結晶也隨之變得細致緊密；但是陰極上的電流密度不能過大，不能超過允許的上限值（不同的電鍍溶液在不同工藝條件下有著不同的陰極電流密度的上限值），超過允許的上限值以后，由于陰極附近嚴重缺乏金屬離子的緣故，在陰極的前列和凸出處會產生形狀如樹枝的金屬鍍層、或者在整個陰極表面上產生形狀如海綿的疏松鍍層。在生產中經常遇到的是在零件的尖角和邊緣處容易發生“燒焦”現象，嚴重時會形成樹枝狀結晶或者是海綿狀鍍層。電鍍電鍍溶液溫度當其它條件（指電壓不變，由于離子擴散速度加快，電流會增大）不變時，升高溶液的溫度，通常會加快陰極反應速度和離子擴散速度，降低陰極極化作用，因而也會使鍍層結晶變粗。但是不能認為升高溶液溫度都是不利的，如果同其它工藝條件配合恰當，升高溶液溫度也會取得良好效果。例如升高溫度可以提高允許的陰極電流密度的上限值，陰極電流密度的增加會增大陰極極化作用，以彌補升溫的不足，這樣不但不會使鍍層結晶變粗而且會加快沉積速度，提高生產效率。此外還可提高溶液的導電性、促進陽極溶解、提高陰極電流效率（鍍鉻除外）、減少***、降低鍍層內應力等效果。浙江共感電鍍有限公司是一家專業提供電鍍產品的公司，期待您的光臨！北京電鍍鍍鋅鎳

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    **滿足了下游組裝的良率與可靠度。在此秘密武器的逞能發威下，當然暫時不必煩惱鍍銅填孔了。不過此種移花接木的剩余價值，也只是某些特定廠商意想不到可遇難求的機緣而已，盲孔填實的鍍銅仍然還是業界普遍又迫切的需求。電鍍銅酸性銅基本配方與操作80年代以前**銅(簡稱酸性銅)之鍍銅制程，只出現于裝飾光亮鎳前的打底用途。85年以后由于PCB所用高溫焦磷酸銅之差強人意，才逐漸改采低溫之**銅，也才使得此種未被青睞的璞玉渾金終于有了發光的機會。不過其基本配方卻也為了因應穿孔的分布力，與提高延性(Elongation或稱延伸率)之更佳境界起見，而被改為酸銅比甚高(10：1)的新式酸性銅了。時至2001以來，由于水平鍍銅的高電流密度需求，以及面對盲孔填平的**新挑戰起見，于是其之酸銅比又走回頭路而往先前裝飾銅的1：1目標逐漸下降。此種裝飾酸性銅**大的特點就是“微分布力”(MicrothrowingPower)非常好，對于表面刮傷與凹陷等瑕疵很容易予以愈合抹平，于是使得3mil以下小淺盲孔的填實大為受惠。且由于孔長對孔徑的縱橫比還很低，故被熱應力拉斷的可能性也不大。然而一旦微盲孔的口徑到達6mil以上甚至二階深盲孔時，其填平機率即大幅降低，此一困難目前尚未克服。重慶電鍍工藝技術要求